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采用碳纳米管制备的碳化硅纳米晶须研究

韩伟强 , 范守善 , 李群庆 , 顾秉林 , 俞大鹏

无机材料学报

本文报道了采用两步生长法生成碳化硅(SiC)纳米晶须.首先通过二氧化硅与硅反应生成一氧化硅,然后生成的SiO与碳纳米管先驱体反应生成立方结构的β-SiC纳米晶须.其直径为3~40nm,长度为2~20μm.通过XRD、HREM、Raman、PL等检测手段,对生成的碳化硅纳米晶须的形貌、结构等进行了分析研究.其直径为3~40nm,长度为2~20μm.并具有峰值位于430nm的蓝光发射带,本文中还对碳化硅纳米晶须生长机制进行了讨论.

关键词: 碳化硅纳米晶须 , null , null

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