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锗表面二维亚波长结构的反应离子刻蚀制备

李阳平 , 陈海波 , 刘正堂 , 武倩 , 郑倩 , 张淼 , 徐启远

材料科学与工艺

为了获得具有金字塔结构的二维亚波长结构表面,提高其高宽比,用掩模曝光光刻及反应离子刻蚀技术,以SF6和02为反应气体,在Ge衬底上制备了二维亚波长结构,用扫描电镜对刻蚀图形的形貌进行了观察,研究了功率、气压、气体流量及掩模图形对刻蚀图形的影响,结果表明:刻蚀图形腰部被优先刻蚀,形成凹陷的侧壁轮廓;02流量增大有利于在侧壁形成保护层,从而减小腰部刻蚀、增大顶部及根部刻蚀;功率及气压过大或过小均会使侧壁刻蚀较大;方形图案比圆形图案掩模更有利于刻蚀出深度较大的亚波长结构。

关键词: , 光刻 , 反应离子刻蚀 , 亚波长结构 , 掩模

基于赫兹理论的弹性磨具磨抛M300钢表面参数模型研究

吴晓君 , 刘睿平 , 于兴展 , 武倩

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.06.021

目的:由于弹性磨具与曲面接触特征的多样性,导致弹性磨具呈非常量磨损,使磨具的磨抛工况变得复杂,磨抛参数对表面精度的影响没有得到理论上的阐释,通过实验研究磨削过程的磨削参数变化规律与加工表面残留峰移除量的理论关系。方法针对M300钢高耐磨性的特点,通过对球头弹性磨具(油石)的微观接触分析,根据赫兹理论接触应力分布特点,数学推导得出在平面情况下残留峰移除率与影响磨削精度的主要参数的函数关系。结果根据磨削参数变化规律,考虑进给速度的变化,得出任一点的残留峰置的变化量为接触半径减去球头在一定位置下通过的距离,并推导出移除率Q=dh/dt=CPmατnα的预估参数值。根据最小二乘法算得当m=-3,n=-2时,C=1.55×105,移除面积与磨抛参数成正相关。结论通过磨削实验确定移除率待定参数值,从理论上确定影响磨削质量的法向压力和切应力对残留峰移除高度的影响,为曲面磨削弹性预估补偿研究提供参考。同时应适当减小弹性模量,增大法相压力及球头磨具半径,使得进给量增大,减小磨损,提高磨削效率。

关键词: 弹性磨具 , 磨抛参数 , 赫兹理论 , 残留峰分布 , 移除率

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