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Mn掺杂对多铁性BiFeO3薄膜铁电性能以及漏电流的影响

訾玉宝 , 焦兴利 , 王海峰 , 刘亲壮 , 殷志珍 , 张福恒 , 黄振 , 吴文彬

低温物理学报

本文利用脉冲激光沉积技术在(LaAlO3)0.3(Sr2AlTaO6)0.7(001)衬底上生长了BiFe1-xMnxO3(x=0~5%)外延薄膜,研究了Mn掺杂对BiFeO2(BFO)薄膜结构、铁电特性和漏电流的影响.XRD和SEM结果表明薄膜具有良好的结晶质量.漏电流测量显示Mn掺杂有效地减小了BFO薄膜的漏电流密度,因而在室温下5%Mn掺杂的BFO薄膜能够获得饱和的电滞回线.XPS分析证明,Mn掺杂改善BFO薄膜性能的可能原因在于其极大地减少了BFO薄膜中的Fe2+离子.

关键词: 铁酸铋 , 多铁 , 铁电 , 漏电流密度 , 锰掺杂 , 脉冲激光沉积

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