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衬底温度对ZnS薄膜微结构和应力的影响

江锡顺 , 曹春斌 , 蔡琪 , 宋学萍 , 孙兆奇

功能材料

采用射频磁控溅射法分别在不同温度衬底上制备了厚度为320nm的ZnS薄膜,用XRD和光学相移技术研究了不同衬底温度下薄膜的微结构和应力.结果表明:不同温度衬底上沉积的ZnS薄膜均呈多晶状态,衬底温度由50℃上升到400℃的过程中,其择优取向发生了变化,晶粒有明显的生长方向;ZnS薄膜应力随着衬底温度升高逐渐减小,衬底温度在250~350℃之间的ZnS薄膜应力较小且在选区内分布比较均匀.

关键词: ZnS薄膜 , 衬底温度 , 微结构 , 应力

退火温度对ITO薄膜微结构和光电特性的影响

江锡顺 , 万东升 , 宋学萍 , 孙兆奇

人工晶体学报

用直流磁控溅射法制备了氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜.制备出的薄膜在大气环境下退火,退火温度分别为100℃、200℃、300℃和400℃,保温时间为1h.采用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)、紫外-可见光分光光度计和四探针测试仪等测试手段分别对薄膜的微结构、化学组分和光电特性进行了测试分析.分析结果表明:Sn元素已经溶入In2O3晶格中形成了固溶体.退火温度的升高,有助于提高ITO薄膜中Sn原子氧化程度,从而提高了薄膜在可见光范围内的透射率.退火温度为200℃时ITO薄膜的性能指数最高,为4.56×10-3 Ω-1.

关键词: ITO薄膜 , 磁控溅射 , 光电特性

铟锡氧化程度对ITO薄膜光电特性的影响

江锡顺 , 曹春斌 , 宋学萍 , 孙兆奇

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2007.04.008

采用直流磁控溅射法在普通载玻片上制备了氧化铟锡透明导电薄膜(ITO).制备出的薄膜在大气环境下退火,退火温度分别为100℃、200℃和300℃,保温时间为1 h.对薄膜中铟锡原子的氧化程度及其光电特性进行了测试与分析.结果表明:退火温度的升高,有助于提高ITO薄膜中Sn原子氧化程度,从而提高了薄膜在可见光范围内的透射率;退火温度为200℃时,In原子氧化程度较高,薄膜中氧空位数量最多,电阻率最低为6.2×10-3Ω·cm.

关键词: ITO薄膜 , 磁控溅射 , 氧化程度 , 光电特性

Yb3+-Tb3+共掺杂β-NaYF4纳米晶的上转换发光特性研究

张阳熠 , 江锡顺 , 董可秀 , 林其斌 , 葛秀涛

中国稀土学报 doi:10.11785/S1000-4343.20160505

采用水热合成法,以油酸作乳化剂成功制备了Yb3+-Tb3+共掺杂β-NaYF4纳米晶.采用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和荧光光谱仪对所制备的样品进行表征.在980 nm红外半导体激光器的激发下,不仅观察到Yb3+/Tb3+共掺杂NaYF4纳米晶对应于Tb3+离子5D3→7FI(I=6,5和4)和5 D4→7FI(I=6,5,4和3)能级跃迁从红色到紫外的上转换荧光,同时还观察到了杂质离子Er3+的发光.实验发现随着Yb3+浓度的相对减小和Er3+浓度的相对增大,489 nm对应于Tb3+离子5D4→7F6能级跃迁的上转换蓝光得到增强.在Yb3-Tb3-Er3+系统中,简要地讨论了从Yb3+到Er3+再到Tb3+的能量传递过程.

关键词: 上转换 , 纳米晶 , NaYF4 , 稀土

石英颗粒表面合成六棱柱状Mn2+掺杂Zn2SiO4及光致发光性能研究

吴卫明 , 邓景泉 , 江锡顺

兵器材料科学与工程

以SiO2颗粒和Zn(CH3COO)2为原料,采用水热法在不锈钢反应釜中低温制备了Mn2+掺杂的Zn2SiO4荧光材料.利用X线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和荧光分光光度计对影响产物结构及发光性能的反应温度、反应时间、NH4OH质量分数等参数进行研究.结果表明:六棱柱状的ZnSiO4纳米颗粒可以在220℃的低温水热条件下获得,以该法制备的Mn2+掺杂ZnSiO4具有良好的光致发光性能,在220 nm紫外光激发下产生525 nm的绿色发光,并且发光强度随水热反应温度、时间以及NH4OH浓度改变而改变.

关键词: 水热法 , 锰掺杂硅酸锌 , 六棱柱晶体 , 光致发光

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