邵红红
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王季
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王晓静
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于春杭
,
顾冬青
功能材料
采用射频磁控溅射法在40Cr基体上制备了非晶态Al2O3薄膜,并研究了工艺参数(溅射功率,工作气压,溅射时间)、预处理工艺以及中间层对薄膜结合性能的影响.试验结果表明,采用射频溅射法,在功率为250W、工作气压为5.0Pa、时间为3h条件下制备的薄膜结合力最好.基体经过腐蚀预处理和加入镍磷中间层均能改善膜基结合力,后者效果更显著.
关键词:
射频磁控溅射
,
Al2O3薄膜
,
非晶态
,
结合力
,
Ni-P中间层
王晓静
,
邵红红
,
王季
机械工程材料
采用射频磁控溅射法在室温、500℃的单晶硅和GCr15钢基体上制备了MoS2/SiC双层薄膜,并借助X射线衍射仪、扫描电子显微镜、摩擦磨损试验机以及划痕仪等研究了薄膜的结构、形貌、成分、摩擦学性能以及薄膜与基体的结合力。结果表明：当衬底温度为500℃时制备的MoS2/SiC双层薄膜表面致密平整,两层薄膜之间界面平直,膜厚约为0.8μm;该双层膜的摩擦因数低,耐磨性好;添加中间层可提高薄膜与基体的结合力。
关键词:
射频磁控溅射
,
MoS2/SiC双层薄膜
,
摩擦因数
,
结合力
王季
,
索来春
,
付宜利
材料科学与工艺
电解质等离子抛光过程中受抛光产生的金属微粒的干扰，无法使用电导法对抛光液中硫酸铵的含量进行检测，为了解决这一问题，基于实验提出了两种确定硫酸铵含量（质量分数）的方法．一种方法是利用抛光液中硫酸铵的含量低于2．5％以后抛光的电流密度会明显下降的现象，定时检测抛光过程中电流值和抛光液温度，以确定是否需要补充硫酸铵．另一种方法是通过实验得到一定抛光液温度下抛光量与硫酸铵消耗量的关系，再在抛光过程中记录抛光量计算抛光液中硫酸铵含量的方法．研究发现，前一种方法应用更为简便，适用于一般工业生产；后一种方法适用于对抛光效果要求更高的加工．经实验验证两种方法均具有可行性．
关键词:
电解质等离子抛光
,
硫酸铵
,
质量分数
,
电流密度
,
抛光量
