赵银女
材料科学与工程学报
doi:10.14136/j.cnki.issn.1673-2812.2015.04.018
用射频磁控溅射Ga2O3陶瓷靶材和直流磁控溅射ITO靶材在石英玻璃衬底制备Ga2 O3 /ITO周期多层膜.样品在300～800℃真空退火1小时,研究退火温度对薄膜光学和电学性能的影响.400℃退火的Ga2O3/ITO周期多层膜面电阻和电阻率低至68.76Ω/□和3.47×10-3Ω·cm,载流子浓度和霍尔迁移率高达1.30×1020 cm-3和14.02cm2 V-1 s-1.退火温度超过500℃后,Ga2O3膜层和ITO膜层之间开始相互扩散,薄膜结晶质量和导电性变差.所有退火薄膜在紫外-可见光范围的平均光学透过率高于83％,光学带边吸收随退火温度增加发生蓝移,光学带隙从4.59eV增加到4.78eV.
关键词:
磁控溅射
,
多层膜
,
透明导电膜
,
退火
,
光学性质
,
电学性质
赵银女
材料科学与工程学报
Ga1.5In0.5O3是一种潜在的紫外透明导电材料.用第一性原理计算了含氧空位的Ga1.5In05O3的结构参数、生成焓、能带结构、态密度、光吸收和光反射.氧空位的位置影响Ga1.5In0.5O3化合物的晶格常数和生成焓,含氧空位的Ga1.5In0.5O3是间接带隙半导体,其带隙宽度较本征Ga1.5In0.5O3带隙值变宽.氧空位VO(1)、VO(2)和VO(3)在Ga1.5In0.5O3中分别引入0.237eV、0.239eV和1.384eV的施主杂质能级,在吸收光谱中出现杂质吸收现象.氧空位降低Ga1.5In0.5O3吸收主峰和反射主峰的强度,在近红外区含VO(1)和VO(2)的Ga1.5In0.5O3的吸收系数和反射率较大,含VO(3)的Ga1.5In0.5O3的吸收系数和反射率较小.
关键词:
Ga2(1-x)In2xO3化合物
,
氧空位
,
电子结构
,
第一性原理
赵银女
材料科学与工程学报
用第一性原理计算了Sn替位Ga1.375In0.625O3化合物的Ga原子(Ga1.25In0.625Sn0.125O3)和Sn替位Ga1.375In0.625O3化合物的In原子(Ga1.375In0.5Sn0.125O3)的结构、电子能带和态密度.Ga1.25In0.625 Sn0.125O3半导体材料比Ga1.375In0.5 Sn0.125O3材料具有大的晶胞体积和强的Sn-O离子键.在Sn掺杂Ga1.375In0.625O3半导体中,Sn原子优先取代In原子.Sn掺杂Ga1.375In0.625O3半导体显示n型导电性,杂质能带主要由Sn 5s态组成.Ga1.375In0.5Sn0.125O3半导体的光学带隙大于Ga1.25In0.625Sn0.125O3半导体的光学带隙.Ga1.25In0.525Sn0.125O3具有小的电子有效质量,Ga1.375In0.5Sn0.125O3具有多的相对电子数.
关键词:
Sn掺杂Ga1.375In0.625O3
,
电子结构
,
第一性原理
,
掺杂位置
