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单晶硅的电化学钝化

杨军 , 邓薰南 , 许六妹

材料研究学报

常温下,用电化学氧化法在单晶硅表面形成SiO_2钝化膜,钝化液可为有机溶液或纯水,控制电压能调节钝化膜厚度。测试并比较了钝化膜的基本性能。

关键词: 单晶硅 , passivation , passive film

电沉积CdTe半导体薄膜中Cd和Te含量的极谱分析

郭也平 , 邓薰南 , 张红青

材料研究学报

用极谱法分析电沉积CdTe 半导体薄膜中Cd 和Te 的含量随电沉积电位、沉积温度和热处理温度的变化,获得Cd 和Te 原子数之比几乎为1∶1的CdTe 薄膜。热处理能改变CdTe 薄膜的导电类型。

关键词: 极谱分析 , CdTe thin films , electrodeposit

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