常春
,
李木森
,
陈传中
,
田雷言
金属学报
采用SEM, TEM和XRD方法研究了MoSi2在1200-1600℃的氧化层微观结构.在1240℃以下, 氧化层由SiO2和其它氧化物混合而成, 致密度较差. 1240-1520℃区间氧化层表面存在针状、扇状或羽状的低温石英, 氧化层较薄. 在1520℃以上, 氧化层中含有块状、粒状或蜂巢状的方石英, 氧化层致密而均匀, 增强了材料的抗氧化性能.
关键词:
MoSi2
,
null
,
null
常春
,
李木森
,
陈传中
,
田雷言
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2003.02.003
采用SEM,TEM和XRD方法研究了MoSi2在1200-1600℃的氧化层微观结构.在1240℃以下,氧化层由SiO2和其它氧化物混合而成,致密度较差1240-1520℃区间氧化层表面存在针状、扇状或羽状的低温石英,氧化层较薄.在1520℃以上,氧化层中含有块状、粒状或蜂巢状的方石英,氧化层致密而均匀,增强了材料的抗氧化性能.
关键词:
MoSi2
,
微观结构
,
氧化层
,
方石英
