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王佳宇 , 白亦真 , 陈宏宇 , 吕宪义 , 金曾孙 , 纪红
功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2001.03.006
与现有的金刚石膜抛光工艺相匹配的高效刻蚀技术，是目前研究的热点。自行研制的稀土 化合物浆料对CVD金刚石厚膜进行了刻蚀研究，刻蚀过程在低于金刚石氧化点的温度下和大气 环境中完成。其刻蚀结果，用扫描电子显微镜给出。实验表明,该工艺采用廉价的稀土化合物为 原料，具有简单、安全、高效的特点。
关键词: CVD金刚石厚膜 , 刻蚀 , 稀土化合物浆料
