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高岭石/对硝基苯胺插层复合物的制备与表征

张生辉 , 夏华 , 杨薇 , 赵顺平 , 韩利雄

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2004.03.007

以高岭石/DMSO作为前驱化合物,甲醇取代DMSO形成高岭石/甲醇插层复合物中间体,再用二次取代法成功制备了高岭石/对硝基苯胺插层复合物,产物用X射线粉晶衍射和傅利叶变换红外光谱进行了表征.高岭石的层间距扩张到1.48nm,插层率达到了81.0%.高岭石/对硝基苯胺插层复合物的红外光谱表明:对硝基苯胺分子中硝基上的氧原子与高岭石的内表面羟基形成氢键;氨基上的氢原子与高岭石的硅氧层面中的氧形成氢键;对硝基苯胺分子可能以单分子层垂直排列于高岭石层间.

关键词: 高岭石 , 对硝基苯胺 , 插层复合物 , 插层

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