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磁控溅射Ni_(56)Mn_(27)Ga_(17)高温形状记忆薄膜的马氏体相变与组织结构

刘超 , 牟海维 , 高新成 , 夏法锋 , 高智勇 , 蔡伟

功能材料

采用磁控溅射方法制备了Ni_(56)Mn_(27)Ga_(17)高温形状记忆合金薄膜,研究了薄膜的马氏体相变行为和组织结构.试验结果表明,Ni_(56)Mn_(27)Ga_(17)薄膜马氏体相变开始温度高达584K,该薄膜室温下为非调制四方结构马氏体.透射电镜观察进一步表明,其马氏体亚结构为(111)I型孪晶.

关键词: Ni-Mn-Ga , 形状记忆合金 , 薄膜 , 磁控溅射

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