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氨化Si基Ga2O3/V薄膜制备GaN纳米线

杨兆柱 , 薛成山 , 庄惠照 , 王公堂 , 秦丽霞 , 李红 , 陈金华 , 黄英龙 , 张冬冬

功能材料

为了制备高质量的GaN纳米结构,采用磁控溅射技术先在硅衬底上制备Ga2O3/V薄膜,然后在流动的氨气中进行氨化反应,成功制备出GaN纳米线.采用X射线衍射(XRD)、傅里叶红外吸收光谱(FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)对样品进行分析.研究结果表明,采用此方法得到了六方纤锌矿结构的GaN纳米线,且900℃时制备的纳米线质量最好,直径在60nm左右,长度达到十几微米.

关键词: 磁控溅射 , GaN , V , 纳米线

Si基Au催化合成镁掺杂GaN纳米线

黄英龙 , 薛成山 , 庄惠照 , 张冬冬 , 王英 , 王邹平 , 郭永福 , 刘文军

功能材料

通过一种新奇的方法在硅衬底上成功地合成了掺杂镁的氮化镓纳米线,用金属镁粉末作为掺杂源,然后在900℃时于流动的氨气中进行氨化Ga2P3薄膜制备GaN纳米线.X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、选区电子衍射(SAED)和能量弥散X射线谱(EDX)的分析结果表明,采用此方法得到的GaN纳米线为六方纤锌矿结构,纳米线的直径大约在60~100nm之间,纳米线的长约十几个微米.EDX分析表明纳米线掺杂了镁.室温下以325nm波长的光激发样品表面,发现由于镬的掺杂使GaN的发光峰有较大的蓝移.最后,简单讨论了GaN纳米线的生长机制.

关键词: 磁控溅射 , GaN纳米线 , Mg , 氨化

氨化温度对氨化Si基Ga2O3/Cr膜制备GaN纳米结构的影响

王邹平 , 薛成山 , 庄惠照 , 王英 , 张冬冬 , 黄英龙 , 郭永福

功能材料

采用磁控溅射的方法在Si(111)衬底上溅射沉积Ga2O3/Cr膜,并通过氨化的方法在Si(111)衬底上成功合成了六方纤锌矿GaN纳米结构材料,研究了不同的氨化温度对合成GaN纳米材料的影响.采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、高分辨透射电子显微镜(HR-TEM)、傅里叶红外吸收(FTIR)光谱来检测样品的形态,结构和成分,并且讨论了GaN纳米结构的生长机理.研究结果表明,在Cr催化合成GaN纳米结构的过程中,氨化温度对其有重要影响,最佳温度是950℃.

关键词: Ga2O3/Cr膜 , GaN纳米线 , 氨化温度 , 磁控溅射

化学气相沉积法制备GaN纳米线和纳米棒

王英 , 薛成山 , 庄惠照 , 王邹平 , 张冬冬 , 黄英龙

功能材料

采用浸渍法在未抛光的硅衬底上涂抹一层NiCl2薄膜,通过化学气相沉积法(CVD)制备出高质量的GaN纳米线和纳米棒.X射线衍射(XRD)、傅立叶红外吸收光谱(FTIR)、选区电子衍射(SAED)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)的分析结果表明,采用此方法得到了六方纤锌矿结构的GaN单晶纳米线.通过扫描电镜(SEM)观察发现纳米线的形貌,纳米线的直径在50~200nm之间,纳米棒的直径在200~800nm之间.

关键词: GaN纳米结构 , NiCl2 , CVD

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