齐永莲
,
王丹
,
邱云
,
张斌
,
周婷婷
,
谢蒂旎
,
薛建设
,
赵合彬
,
曲连杰
,
石广东
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20173203.0169
平板显示中影响色域的两个关键因素为背光源发光光谱特性和彩色滤光片的透过光谱特性.在TFT-LCD的高色域领域,为了实现BT2020标准,我们开发了量子点光刻胶替代彩色滤光片的方法.首先合成新型的量子点光刻胶,将其作为色彩转换膜制备在彩色滤光片下方,通过背光激发量子点自发光,可得到色纯度更高的红绿光.研究表明,自主开发的量子点光刻胶可以有效地进行色转换,可耐受光刻工艺,在高温烘烤和碱性显影下,可保持一定转换效率,且能实现pattern化,避免目前用白光直接搭配彩膜的漏光问题,有效地提高色域.
关键词:
量子点
,
光刻胶
,
图案化
,
高色域
,
显示
张锋
,
舒适
,
齐永莲
,
刘震
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20153006.0915
主要分析了黑矩阵残留程度与 SiNx、SiON、SiOx 等基底表面亲水特性的关系,研究了等离子体处理对基底表面亲水特性以及黑矩阵残留的影响。首先,通过原子力显微镜和扫描电子显微镜对黑矩阵在不同基底表面的残留颗粒大小、表面粗糙度进行了测试。然后,使用接触角测试仪对不同基底表面的亲水特性进行了表征,分析了表面亲水特性和黑矩阵残留程度的关系。最后,研究了等离子体处理条件对基底表面亲水特性的影响,提出了采用 O2/He 等离子体对基底表面进行改性来解决黑矩阵的残留问题。实验结果表明：基底表面的水接触角越小、亲水性越强,黑矩阵在基底表面的残留越少；O2/He 等离子体表面处理使基底表面的水接触角从17°降低到3°,增强了基底表面的亲水特性,并且黑矩阵工艺之后基底表面的粗糙度从3.06 nm 降低到0.69 nm,消除了黑矩阵的残留。
关键词:
等离子体处理
,
亲水性
,
接触角
,
黑矩阵
