丛芳玲
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赵青南
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刘旭
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罗乐平
,
顾宝宝
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董玉红
,
赵杰
硅酸盐通报
采用射频磁控溅射法在普通玻璃衬底上制备了Ga2O3含量为3wt.％的掺镓氧化锌透明导电薄膜(GZO).通过X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、四探针测试仪、台阶仪、UV-Vis-NIR3600型紫外-可见分光光度计研究了溅射时间对薄膜结构、表面形貌及光电性能的影响.结果表明,溅射时间为40 min时制备的GZO薄膜的光电综合性能最好,可见光区透过率峰值86％,方阻为16.4Ω/□,电阻率为1.18 ×10-3Ω·cm,性能指数ΦTc为4.73 ×10-3 Ω-1;随着溅射时间增加,薄膜光学带系从3.69 eV减少到3.56 eV.在溅射时间60 min时结晶度最高,方块电阻为9.0Ω/□,电阻率最低为9.7×10-4 Ω·cm,可见光透过率峰值为81％.
关键词:
GZO薄膜
,
溅射时间
,
光电性能
,
射频磁控溅射
罗乐平
,
赵青南
,
刘旭
,
丛芳玲
,
顾宝宝
,
董玉红
,
赵杰
硅酸盐通报
通过选取室温、100℃、200 ℃三个不同基片温度制度来探讨基片温度对氧化钨薄膜电致变色循环寿命的影响.实验结果表明:当基片温度由室温提高至100℃后,氧化钨薄膜的循环寿命有较大的改善,循环次数由806次提高至3000次.当基片温度由100℃提高至200℃时,循环寿命反而有所衰退,循环次数由3000次减少至1000次.
关键词:
直流反应溅射
,
氧化钨薄膜
,
基片温度
,
循环寿命
,
光学调制幅度
刘旭
,
赵青南
,
罗乐平
,
丛芳玲
,
顾宝宝
,
董玉红
,
赵杰
人工晶体学报
经过膜系设计,以TiO2和SiO2为介质膜,采用磁控溅射镀膜工艺,制备了不同颜色的镀膜玻璃,计算了不同颜色玻璃的色坐标.用XPS表征了TiO2薄膜中Ti元素价态以及化学计量比;用紫外-可见光谱仪测试了复合膜选择性反射的特性;通过将镀膜玻璃浸泡于酸、碱中测试了其环境稳定性.测试结果表明,复合膜具有较强的抗碱能力,但其抗酸腐蚀能力较弱,随着腐蚀时间的延长,反射谱线向短波方向漂移且峰值降低;同时,也分析了腐蚀机理和谱线漂移的原因.
关键词:
彩色镀膜玻璃
,
磁控溅射
,
TiO2和SiO2薄膜
,
环境稳定性
顾宝宝
,
赵青南
,
刘旭
,
罗乐平
,
丛芳玲
,
赵修建
硅酸盐通报
采用直流磁控溅射镀膜工艺,在不同的氮氩流量比条件下,制备了玻璃基TiN薄膜.通过X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM、EDS)、纳米显微硬度仪,研究了TiN薄膜的组织结构、物相组成、表面形貌、元素成份、维氏硬度,分析了氮氩流量比对TiN薄膜结晶取向、硬度的影响机理.结果表明,在低的氮氩流量比条件下,TiN薄膜以(111)晶面择优取向;随着氮氩流量比增加,择优取向由(111)晶面向(200)晶面过渡;氮氩流量比为1∶2时薄膜以(200)晶面择优取向;继续增加氮氩流量比(1∶2 ～2∶1),TiN薄膜衍射峰强度降低,晶粒尺寸减小;当氮氩流量比增加到2∶1时,薄膜开始呈现非晶态.随着氮氩流量比的增加,薄膜硬度呈现先增加后减小的趋势;当氮氩流量比为1∶1时,TiN薄膜以(200)晶面择优取向结晶,组织致密均匀,晶粒尺寸最小,具有最大的硬度值(825 HV),相比未镀膜的玻璃基片,硬度值增加了20.44％.
关键词:
磁控溅射
,
玻璃基TiN薄膜
,
硬度
,
氮氩流量比
