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壳聚糖/羟基磷灰石-庆大霉素缓释材料的抗茵性能研究及AFM观察

赵宏霞 , 黄才欢 , 金花 , 蔡继业 , 严琼琼 , 廖问陶

功能材料

制备壳聚糖/羟基磷灰石-庆大霉素(CS/HA-G)缓释材料,评价其抗茵性能在骨髓炎的治疗中的应用前景;并从微观角度初步探讨药物对大肠杆菌的作用机制.对CS/HA-G缓释材料进行体外缓释行为研究及抗茵实验;并以原子力显微镜(AFM)观察大肠杆茵在药物作用前后表面形态结构的变化.CS/HA-G对大肠杆茵的抑茵效果显著,维持有效释药时间长达30d以上.AFM观察显示药物作用于大肠杆菌后菌体高度和表面平均粗糙度(Ra)均下降,有内容物渗漏.CS/HA是一种理想的庆大霉素载体材料.CS/HA-G的缓释作用和缓释规律显示出该材料在大肠杆菌引发的骨髓炎的防治中具有极大的临床应用潜能.

关键词: 羟基磷灰石 , 壳聚糖 , 庆大霉素 , 局部药物缓释体系 , AFM

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