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磁控溅射法制备TiO2空穴缓冲层的有机发光器件

仲飞 , 刘彭义 , 任思雨

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2005.04.014

采用磁控溅射方法在ITO表面制备了不同厚度的TiO2超薄膜用做有机发光二极管(OLEDs)的空穴缓冲层,使OLEDs (ITO/ TiO2/ TPD/ Alq3 / Al)的发光性能得到很大改善.研究TiO2缓冲层厚度对器件性能影响的结果表明,当TiO2缓冲层厚度为1 nm,电流密度为100 mA/cm2时,器件的发光效率为2 cd/A,比未加缓冲层器件的发光效率增加了近一倍.这是由于加入适当厚度的TiO2缓冲层限制了空穴的注入并且提高了空穴与电子注入之间的平衡.

关键词: TiO2超薄膜 , 磁控溅射 , 有机发光二极管 , 空穴缓冲层

退火处理对ITO表面特性及有机发光器件性能的影响

仲飞 , 刘彭义 , 段光凤

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2005.06.007

为了改善有机发光器件(OLEDs)的性能,在0~600 ℃不同温度下对ITO透明导电玻璃进行了退火处理.SEM观察到随退火温度的升高,ITO表面粗糙度增加;四探针电阻测试结果显示,在300 ℃以上温度退火后ITO表面电阻率有明显增加.用退火前后的ITO玻璃作为阳极制备了OLEDs,器件结构为ITO/TPD/Alq3/Al,比较器件的电流密度-电压特性曲线测试结果表明,ITO薄膜的热处理温度对OLEDs性能有显著的影响.

关键词: ITO , 有机发光器件 , 退火 , 表面处理 , 性能

磷酸处理ITO基底对有机发光二极管性能的改善

翟琳 , 仲飞 , 刘彭义

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2006.05.010

用10 %、15 %、20 % 3 种浓度(体积分数)的磷酸分别对ITO玻璃进行处理,四探针测试表明其面电阻基本不变,原子力显微镜观测到酸处理后的ITO表面形貌更加平坦,紫外-可见光光谱显示出磷酸处理几乎不影响可见光透过率;以之为基底制备了典型结构(ITO/TPD /Alq/Al)有机发光二极管(OLEDs),并对其光电性能进行了测试,结果表明在经过浓度为15 %的磷酸处理过的ITO玻璃上制备的OLEDs表现出最好的光电性能,其发光最大亮度和发光效率分别是未经酸处理的ITO上器件的近2倍.

关键词: OLED , 表面处理 , ITO , 电致发光效率

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