任兵
,
杜楠
,
崔宇
,
邱媛
,
于宽深
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2016.05.002
研究了酒石酸钾钠对羟基乙叉二膦酸(HEDP)镀铜形核的影响.通过线性扫描伏安、交流阻抗和循环伏安曲线研究铜沉积的电化学行为.随着镀铜液中酒石酸钾钠含量的提高,阴极极化曲线负移,X-射线衍射结果表明,晶粒由44 nm减小到40 nm;酒石酸钾钠的加入使循环伏安电流环消失;在-1.44、-1.45和-1.46V的电位下,酒石酸钾钠的质量浓度在0～21 g/L内,镀液中铜离子在玻碳电极上的形核方式都为三维瞬时形核,不改变铜的形核方式;酒石酸钾钠的质量浓度增加到21 g/L,成核数密度和晶核垂直生长速率较基础液都有所增大;在电位-1.00 ～-1.20V之间,铜络离子还原的表观反应活化能随着电位负移而减小,表观反应活化能由14 kJ/mol增大到25kJ/mol,电极反应由扩散控制转向扩散过程和电极反应过程联合控制.
关键词:
羟基乙叉二膦酸
,
铜电沉积
,
成核机理
,
酒石酸钾钠
