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液相合成硒化镉(CdSe)热力学研究

何知宇 , 赵北君 , 朱世富 , 王瑞林 , 陈松林 , 李艺星 , 罗政纯 , 任锐

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.03.010

本文报道了对硒化镉(CdSe)合成反应的反应焓变,反应熵变,Gibbs自由能以及配料的化学计量的分析计算,从热力学角度论证了在中温(~650℃)下直接液相合成高纯CdSe的可能性.按照理论分析结果选择技术参量进行了CdSe液相合成实验,并采用X射线粉末衍射谱法对合成产物进行了分析,结果证实了热力学分析的正确性.

关键词: 热力学 , 合成 , CdSe , XRD

硒化镉多晶原料的提纯

李艺星 , 赵北君 , 朱世富 , 王瑞林 , 陈松林 , 何知宇 , 罗正纯 , 任锐

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.03.015

采用改进的垂直无籽晶气相法生长大尺寸高质量的CdSe单晶体要求原料的纯度高.本文根据差热(DTA)和热失重(TG)测试结果,设计出连续抽空区域升华提纯CdSe原料的新方法,用该方法提纯的原料生长出大尺寸、高质量的CdSe单晶体.等离子体质谱仪(ICP-MS)分析结果表明,新方法对CdSe的提纯是有效的,纯化后的原料可以生长出大尺寸高质量的CdSe单晶体.

关键词: 硒化镉 , 提纯 , 差热分析 , 热重分析 , 等离子体质谱分析鲻

湿氧钝化CdSe(110)表面的XPS分析

罗政纯 , 朱世富 , 赵北君 , 王瑞林 , 陈松林 , 何知宇 , 李艺星 , 任锐

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.02.008

用双氧水对CdSe单晶(110)表面进行钝化,采用X射线光电子能谱(XPS)分析了湿氧处理的CdSe(110)表面的化学特征.通过两次不同分析模式FAT(固定通能)和FRR(固定减速比)所得到的结果表明:CdSe表面出现Se偏析,表面上形成了SeOx(x<1),SeO、Cd(OH)2和CdCO3的高电阻稳定氧化层,消除了器件表面态,可以减少器件的表面漏电流和改善其信噪比.

关键词: CdSe单晶体 , 表面钝化 , XPS

双温区生长CdSe单晶及其红外表征

叶林森 , 赵北君 , 朱世富 , 何知宇 , 任锐 , 王瑞林 , 钟雨航 , 温才 , 李佳伟

功能材料

硒化镉晶体是一种很有前途的室温核辐射探测器半导体材料,实验采用改进的双温区气相垂直提拉法成功的生长了Φ15mm×40mm,电阻率为107~108(Ω·cm)量级的硒化镉单晶体.对生长的硒化镉单晶体(110)解理晶片进行XRD、红外透过测试,结果显示:硒化镉单晶体完整性好,红外透过率>62%,表明用二步提纯,在具有较好温度梯度的双温区炉中生长晶体,能有效地控制杂质、缺陷浓度和晶体的化学配比.

关键词: 硒化镉 , 晶体生长 , 气相垂直提拉 , 电阻率 , 红外表征

硒化镉(CdSe)单晶体的变温霍尔效应研究

温才 , 赵北君 , 朱世富 , 王瑞林 , 何知宇 , 任锐 , 罗政纯 , 李艺星

功能材料

通过变温(20~300K)霍尔效应测量,研究了CdSe单晶体的电阻率ρ(T)、载流子浓度n(T)、霍尔系数RH(T)和霍尔迁移率μH(T)的温度依赖关系.实验结果表明CdSe单晶体的导电类型总为n型,且它的电阻率与载流子浓度的温度依赖关系与n-Si单晶类似.通过拟合禁带宽度约为1.7eV.本文还进一步研究了本征区、饱和区、弱电离区内电子浓度的变化和霍尔因子γ随温度变化关系,并由此计算出杂质电离能(24.7meV)与补偿度(23.7%).上述结果表明CdSe单晶体具有优良的电学特性,是制作室温核辐射探测器的理想材料.

关键词: CdSe单晶体 , 核辐射探测器 , 霍尔效应

CdSe探测器晶片化学机械抛光工艺研究

钟雨航 , 朱世富 , 赵北君 , 任锐 , 何知宇 , 叶林森 , 温才

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.05.008

采用相同温度、刚玉粉、抛光时间和不同方式配制成抛光液,对4组CdSe晶片进行抛光.研究结果表明,采用化学机械抛光能较大地提高晶片的抛光质量.通过用不同pH值的抛光液对CdSe晶片进行抛光,发现用NaOH将抛光液pH值调整为8的一组CdSe晶片,获得了最好的抛光效果,电阻率较高,达到3.2×108Ω·cm以上,适合CdSe探测器制备.

关键词: 硒化镉 , 机械化学抛光 , 抛光液 , 金相显微镜 , 电阻率

铝硬质阳极氧化新工艺的研究

任锐 , 贺子凯

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2003.04.004

开发出铝在复合有机羧酸中的大电流硬质阳极氧化工艺.该工艺可在20~40 min的氧化时间内获得硬度为400~800 HV、厚度为30~60 μm的黑色致密氧化膜层.研究了工艺条件如复合有机羧酸浓度、初始电流密度以及氧化时间对膜层性能的影响.

关键词: , 硬质阳极氧化

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