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工艺参数对Ni-SiC复合镀层的影响

齐建新 , 李琴 , 钟思云 , 钟林峰 , 曾得锦 , 但晴华

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2013.01.009

采用复合电镀工艺制备了Ni-SiC复合镀层,研究了电流密度、镀液温度、pH、镀液中SiC、十二烷基硫酸钠和硫酸钴质量浓度对镀层中SiC的影响.确定了最佳工艺参数,Jk为1.2 A/dm2,θ为40℃,pH为4.2,20 g/L SiC,0.1 g/L十二烷基硫酸钠,采用该工艺可以获得复合镀层中SiC质量分数较高且镀层结合力较好的复合镀层.

关键词: 复合电镀 , Ni-SiC复合镀层 , SiC微粒

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