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退火对离子注入GaN产生的深能级的影响

许小亮 , 何海燕 , 刘洪图 , 施朝淑 , 葛惟昆 , Luo E Z , Sundaravel B , Wilson I H

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2002.04.002

我们最近报道了大剂量Al+注入原生GaN后对其光学性质的影响.表明Al+的注入可能产生了某种深能级电子陷阱,由于电子陷阱俘获导带电子,导致发光猝灭.而经一定条件的退火处理,可使深的电子陷阱发生变化,因而与缺陷间的跃迁相关的黄色荧光可得到一定程度的恢复.由于注入样品的电阻率高达1012 Ωcm, 因此不能用已有的常规方法测量.我们为此发展了一种称为"光增强电流谱"(PSCS)新方法,用于测量高阻样品中的深能级.研究发现,在经过快速退火处理的样品中,不能消除由于注入产生的准连续深能级带;而在某种常规条件退火的样品中,发现了5个位于导带下1.77eV, 1.24eV, 1.16eV, 0.90eV和0.86eV的深电子陷阱,它们都是Al+ 注入经退火后形成的稳定结构.实验发现退火使注入产生的准连续深能级带转变为独立的深能级结构,虽不能使GaN的本征发光得到恢复,但对黄色荧光的恢复是有利的.此研究有助于了解退火处理对离子注入的GaN的电学结构与发光产生的影响.PSCS的意义在于它适用于测量一切高阻半导体样品中与非辐射跃迁相联系的深陷阱能级,而不仅仅适用于测量Al+注入GaN产生的深陷阱能级.

关键词: 退火 , 离子注入 , GaN , 深能级

Mg掺杂对MgZnO纳米线带隙和结构的调节

张艳革 , 何海燕 , 潘必才

金属功能材料

采用第一性原理对Mg掺杂的不同尺寸MgZnO合金纳米线的晶体结构、分布行为、电子结构和波函数进行了计算和分析.研究表明,Mg在合金纳米线中偏向均匀分布并且Mg能有效地在较大范围内线性调节纳米线的带隙.此外,通过计算结合能得到MgxZn1-xO纳米线从纤锌矿结构到岩盐矿结构的相变点在x=0.65,和实验上薄膜的转变点(0.62)很接近.

关键词: 第一性原理 , 相变点 , 密度泛函理论 , MgZnO合金纳米线 , 能带调节

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