侯若男
,
彭同江
,
孙红娟
,
刘海峰
功能材料
doi:10.3969/ji.ssn1.001-97312.0151.60.13
以 Hummers法获得的氧化石墨为原料制备氧化石墨烯，在不同温度下还原获得不同还原程度的还原氧化石墨烯，采用AFM、XRD、XPS和SEM 对样品的结构、官能团及表面形貌进行表征，并采用涂覆法制备氧化石墨烯和还原氧化石墨烯气敏器件。结果表明，所得氧化石墨烯片厚度为10．8～17．2 n m ，为单层或双层氧化石墨烯。经100～250℃还原后，样品对应的底面间距由88．7nm减小至36．8nm ；随还原程度增加，O／C原子比由04．3降至03．2；含氧官能团逐渐减少，其中C‐OH含量明显降低；元件灵敏度降低。氧化石墨烯及其低还原程度产物的气敏元件对C H4和H2气体表现出较高的响应和灵敏度，S‐G O S对C H4的灵敏度可达81％左右，对H2灵敏度可达772．％。
关键词:
氧化石墨烯
,
热还原
,
气敏性
