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Al含量对TiAlN涂层结合强度的影响

朱丽慧 , 胡涛 , 彭笑 , 倪旺阳 , 刘一雄

材料热处理学报

采用阴极电弧蒸发工艺在WC-6Co硬质合金表面制备Ti0.5Al0.5N、Ti0.45Al0.55N和Ti0.4Al0.6N涂层,采用声发射划痕仪测定涂层的结合强度.研究了Al含量对TiAlN涂层结合强度的影响及机理,并分析了TiAlN涂层的失效模式.结果表明,随Al含量增加,Til-xAlxN(x =0.5 ~0.6)涂层结合强度下降.TiAlN涂层结合强度受涂层残余应力与膜基硬度差的影响.Ti0.5Al0.5N涂层残余应力较小,且膜基差异性最小,结合强度最高.Ti0.5Al0.5N和Ti0.45Al0.55N涂层均为楔形剥落,Ti0.4Al0.6N涂层则为屈曲剥落.Al含量增加降低TiAlN涂层结合力,但有利于改善涂层韧性.Ti0.4 Al0.6N涂层因含少量较软的h-AlN相,其韧性明显提高.

关键词: TiAlN涂层 , 结合强度 , 失效模式

Al含量对TiAlN涂层的组织和抗氧化性能的影响

陈佳荣 , 朱丽慧 , 倪旺阳 , 刘一雄

上海金属 doi:10.3969/j.issn.1001-7208.2010.03.003

采用阴极电弧蒸发镀在WC-Co硬质合金基体表面沉积两种不同Al含量的(Ti1-xAlx)N涂层,比较了(Ti0.4Al0.6)N涂层和(Ti0.55Al0.45)N涂层的组织和抗氧化性能.结果表明:两种涂层的主要相都是呈NaCl型面心立方结构的TiN.(Ti0.4Al0.6)N涂层晶格常数较小,固溶强化作用较大,具有较高的硬度.与(Ti0.55Al0.45)N涂层相比,(Ti0.4Al0.6)N涂层900 ℃氧化后增重较少.XRD和SEM分析结果表明氧化后TiMN涂层会形成Al2>O3>和TiO2>氧化物,且Al2>O3>对涂层中TiO2>析出有抑制作用,氧化后Al含量较高的(Ti0.4Al0.6)N涂层的Al2>O3>和TiO2>含量较低,表面的氧化物颗粒尺寸也较小.(Ti0.4Al0.6)N涂层抗氧化性能优于(Ti0.55Al0.45)N涂层.

关键词: (Ti1-xAlx)N涂层 , Al含量 , 组织结构 , 抗氧化性

小角X射线衍射技术在TiAlN涂层中的应用

胡明媚 , 朱丽慧 , 倪旺阳 , 刘一雄

上海金属 doi:10.3969/j.issn.1001-7208.2012.03.005

主要采用常规X射线衍射法(XRD)和小角X射线衍射法对微米级厚度的Ti0.5Al0.5N涂层分别进行了物相检测、晶格常数计算和残余应力测定,并对测量结果进行了比较.结果表明:常规XRD法得到的图谱中基体信息强,而小角XRD法排除了基体衍射峰的干扰,更好地反映出TiAlN涂层信息;与常规XRD相比,小角XRD技术能显著降低晶格常数测量误差,有效测定TiAlN涂层的残余应力值.

关键词: TiAlN涂层 , 小角X射线衍射 , 物相检测 , 晶格常数 , 残余应力

加入10%Si 对阴极电弧蒸镀 TiAlSiN 涂层的影响

朱丽慧 , 宋诚 , 倪旺阳 , 刘一雄

中国有色金属学报(英文版) doi:10.1016/S1003-6326(16)64273-5

研究加入10% Si(摩尔分数)对 TiAlSiN 涂层的影响。采用阴极电弧蒸镀在 WC?Co 基体上沉积 Ti0.5Al0.5N、Ti0.5Al0.4Si0.1N 和 Ti0.55Al0.35Si0.1N 涂层,通过 X 射线衍射(XRD)、 X 射线光电子能谱(XPS)、扫描电镜(SEM)、纳米压痕测量和划痕试验研究涂层的显微组织和力学性能,探讨 Si 对涂层的性能和结合失效模式的影响机理。结果表明:加入10% Si 后,涂层中形成非晶 Si3N4包覆(Ti,Al,Si)N 纳米晶的纳米复合结构。TiAlSiN 涂层的硬度和韧性升高,但结合强度下降。与 Ti0.55Al0.35Si0.1N 涂层相比, Ti0.5Al0.4Si0.1N 涂层的硬度较高但韧性较低。TiAlN 涂层由于韧性低、界面结合强,因此结合失效模式以楔形剥落为主。TiAlSiN 涂层由于韧性改善、但界面结合变差,因此结合失效模式以屈曲剥落为主。

关键词: TiAlSiN涂层 , TiAlN涂层 , 阴极电弧蒸镀 , 结合强度

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