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HWCVD在玻璃衬底上沉积硅薄膜的研究

张俊丽 , 傅杰财 , 郭小松 , 刘滨 , 谢二庆

材料导报

采用热丝化学气相沉积法在玻璃衬底上沉积硅薄膜,采用扫描电子显微镜、拉曼光谱分析表征样品的形貌和结晶性,较为系统地研究了硅烷浓度、衬底到热丝的距离对硅薄膜生长过程及各种性质的影响,结果表明,较高的衬底温度及较低的硅烷浓度有利于薄膜的结晶.

关键词: 热丝化学气相沉积 , 硅薄膜 , 硅烷浓度 , 衬底与热丝距离 , 衬底温度

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