刘效岩
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刘玉岭
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梁艳
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赵之雯
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胡轶
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赵东磊
功能材料
纳米SiO2是一种性能优越的功能材料,化学机械抛光(CMP)过程的精确控制在很大程度上取决于对纳米SiO2功能的认识.但是目前对碱性纳米SiO2在CMP过程中的功能还没有完全弄清楚,探讨它在CMP中作用是提高CMP技术水平的前提.纳米SiO2溶胶的表面效应使其表面存在大量的羟基,在CMP过程中纳米SiO2表面羟基与碱反应生成硅酸负离子,硅酸负离子再与硅反应来降低纳米SiO2的表面能量,同时达到除去硅的目的.综上所述,碱性纳米SiO2在CMP的过程中不仅起到了磨料的作用,同时参加了化学反应,在此基础上提出了在碱性条件下纳米SiO2与硅的反应机理.
关键词:
纳米SiO2溶胶
,
化学机械抛光
,
表面效应
,
pH值
,
化学反应模型
刘效岩
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刘玉岭
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梁艳
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胡轶
,
刘海晓
,
李晖
稀有金属材料与工程
在低压无磨料条件下,利用碱性FA/O型螯合剂具有极强螫合能力的特性,对铜互连线进行化学机械平坦化,获得了高抛光速率和表面一致性.提出了铜表面低压无磨料抛光技术的平坦化原理,在分析了抛光液化学组分与铜化学反应机理的基础上,对抛光液中的主要成分FA/O型螯合剂、氧化剂的配比和抛光工艺参数压力、抛光机转速进行了研究.结果表明:在压力为6.34 kPa和抛光机转速为60 r/min时,抛光液中添加5％螯合剂与1％氧化剂(体积分数,下同),抛光速率为1825 nm/min,表面非均匀性为0.15.
关键词:
铜互连线
,
无磨料
,
低压
,
FA/O型螫合剂
,
化学机械平坦化
