刘柱方
,
蒋利民
,
汤儆
,
刘品宽
,
孙立宁
,
田中群
,
田昭武
应用化学
doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2004.03.003
运用约束刻蚀剂层技术(CELT)在金属铜(Cu)表面实现了三维微图形加工，取得成功的关键因素在于寻找到能对Cu进行有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系。 采用规整的三维齿状结构为模板,在Cu表面得到了与齿状结构模板互补的三维微结构。 采用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对所刻蚀图案进行表征，证实CELT可用于金属表面三维微图形的刻蚀加工。
关键词:
约束刻蚀剂层技术(CELT)
,
金属铜
,
三维微加工
,
化学刻蚀
