蒋驰
,
周晋林
,
张鹏程
,
肖云峰
,
税毅
,
王术刚
,
刘春荣
,
刘清和
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2002.08.012
采用等离子喷涂法制备了钽金属涂层,用电子显微镜分析了不同工艺条件下钽涂层的化学成分、表面形貌,测试了涂层与基材的结合强度.结果表明,采用优化的等离子喷涂工艺参数,可以制取组织致密、厚度均匀的钽涂层;钽粉的颗粒尺寸对材料的熔化状态影响较大;在试验的喷距范围内,喷距对粉末的熔化状态和涂层结合强度均无明显影响.
关键词:
钽涂层
,
等离子喷涂
,
组织
王庆富
,
刘清和
,
王晓红
,
郎定木
,
李科学
,
唐凯
,
刘卫华
稀有金属材料与工程
利用电化学测试技术、扫描电镜(SEM)及X射线能谱(EDS)对磁控溅射离子镀铌贫铀的电化学腐蚀行为进行了研究.实验结果表明:在50μg/g Cl-的KCl溶液中,铌的腐蚀电位远高于贫铀的腐蚀电位,铌镀层对贫铀是阴极性镀层,对贫铀的保护是基于其对腐蚀介质的物理屏障作用;镀铌贫铀的极化电阻和电化学阻抗幅值远大于贫铀,腐蚀电流远小于贫铀,铌镀层对贫铀具有良好的防腐蚀性能;镀铌贫铀的腐蚀特征为局部腐蚀,并由孔蚀向电偶腐蚀转变.
关键词:
贫铀
,
铌镀层
,
磁控溅射离子镀
,
电化学腐蚀
王庆富
,
刘清和
,
陈林
,
帅茂兵
,
王晓红
,
郎定木
,
刘卫华
稀有金属材料与工程
利用电化学测试技术、扫描电镜(SEM)及X射线能谱(EDS)对贫铀表面钛镀层的抗腐蚀性能进行了研究.结果表明:在50μg/g Cl-的KCl溶液中,钛镀层的腐蚀电位远高于贫铀的腐蚀电位,钛镀层对贫铀是阴极性镀层,对贫铀的保护是基于其对腐蚀介质的物理屏障作用;贫铀表面完整钛镀层的极化电阻和电化学阻抗幅值远大于贫铀,腐蚀电流远小于贫铀,完整钛镀层对贫铀具有良好的抗腐蚀保护作用；贫铀表面钛镀层的腐蚀特征为局部腐蚀,由孔蚀向电偶腐蚀转变；破坏的钛镀层将加速铀基体的腐蚀.
关键词:
贫铀
,
钛镀层
,
电化学腐蚀
白彬
,
肖云峰
,
郎定木
,
刘清和
稀有金属材料与工程
探讨了用等离子体喷涂方法制备改善与U-Nb合金之间摩擦性能的减摩层的可行性.比较了U-Nb合金在涂层表面滑动时Sn软涂层,Sn/ZrO2双涂层,ZrO2硬涂层和ZrO2中加入Sn的混合涂层的摩擦特性.结果表明,表层为Sn的单涂层和Sn/ZrO2双涂层的摩擦性能相近,Sn单涂层的摩擦系数最低.ZrO2硬涂层一直保持着较高的摩擦系数,在ZrO2中加入Sn后,涂层的摩擦系数没有得到有效改善.用等离子体喷涂方法制备的ZrO2硬涂层不适合作U-Nb合金的减摩层.切削是Sn、Sn/ZrO2、Sn+ZrO2、ZrO2的涂层与U-Nb合金之间主要的摩擦机理.
关键词:
U-Nb合金
,
减摩层
,
摩擦
,
等离子体喷涂
鲜晓斌
,
王庆富
,
刘柯钊
,
刘清和
稀有金属材料与工程
采用电化学线性极化、交流阻抗谱技术研究了不同基片偏压上阴极电弧沉积TiN/Ti镀层在50×10-6g/g Cl-溶液中的腐蚀行为,并对镀层腐蚀的机理进行了探讨.结果表明:基片偏压-400V时,镀层耐蚀性能好;镀层表面的针孔是诱发镀层和基材体系发生点蚀、电偶腐蚀的主要缺陷.
关键词:
基片偏压
,
TiN/Ti镀层
,
针孔
,
腐蚀
鲜晓斌
,
吕学超
,
刘清和
,
李科学
,
唐凯
,
刘卫华
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2003.05.005
用循环Ar+轰击-磁控溅射离子镀(MSIP)和化学镀分别在U表面上沉积Cu、Ni-P/Cu,并采用俄歇电子能谱仪(SAM)、扫描透射电镜(STEM)、电化学实验,研究了其表面、剖面形貌和耐蚀性能,以及U基和镀层界面.结果表明:U上循环Ar+轰击-磁控溅射离子镀Cu结晶细密,界面存在较宽的原子共混区,U表面先溅射沉积Cu镀层,再化学镀非晶态Ni-P镀层,能够有效地改善镀层的结合强度.
关键词:
Ni-P/Cu镀层
,
组织结构
,
耐蚀性能
