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硅酸钠对TC4钛合金微弧氧化电极参数及陶瓷膜的影响

赵晖 , 朱其柱 , 金光 , 原瑜 , 万智来

材料保护

硅酸钠是影响微弧氧化过程和微弧氧化膜结构的重要因素之一.采用恒压模式,以Na2SiO3,CH3COONa,EDTA·2Na为溶液,在TC4钛合金表面微弧氧化制备了陶瓷涂层,研究了Na2SiO3浓度对起弧电压,电极电流,陶瓷膜厚度、表面形貌、粗糙度以及陶瓷膜相组成的影响.结果表明:Na2SiO3有降低起弧电压和电极电流的作用;随Na2SiO3浓度的增大,陶瓷膜厚度、表面粗糙度增加;陶瓷膜层主要由锐钛矿型TiO2、金红石型TiO2和无定型硅氧化物相组成,随Na2SiO3浓度的增加,陶瓷膜中的无定型硅氧化物相对含量增加.

关键词: 微弧氧化 , 钛合金 , 硅酸钠 , 陶瓷膜 , 电极参数

纯钛材微弧氧化电参数对陶瓷层组织结构的影响

李玉海 , 原瑜 , 邢贵和

材料保护

以往就纯钛材表面微弧氧化陶瓷层表面积对提供羟基磷灰石生长条件的研究不多,为此,在Na2HPO4电解液中,采用微弧氧化法在纯钛材表面制得多孔结构的二氧化钛陶瓷层.研究了正向电压、频率对微弧氧化陶瓷层组织结构的影响.结果表明,随正向电压升高,膜厚增加,孔径增大,表面变得粗糙;随频率的增加,膜层表面变得光滑,孔径减小,膜厚减小;在正向电压450V,频率600Hz时得到均匀的多孔结构;陶瓷层主要由锐钛矿型Ti02和少量非晶组成,有利于羟基磷灰石生长.

关键词: 微弧氧化 , 陶瓷层 , 纯钛材 , 电压 , 频率 , 组织结构

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