徐连来
,
史书俊
,
范景林
,
张伟儒
硅酸盐通报
doi:10.3969/j.issn.1001-1625.2000.06.011
以氮化硅陶瓷为基底材料,应用等离子喷涂技术,在其表面喷涂羟基磷灰石陶瓷涂层,制成氮化硅-羟基磷灰石陶瓷复合种植体.应用扫描电子显微镜、能谱X线、X-射线衍射仪观测种植体涂层结构和晶相结构变化情况,及Ca/P比值.结果显示羟基磷灰石呈熔和状态,颗粒较大,形成相互沟通的孔道,因而有利于骨组织的长入,喷涂前后其晶相结构及Ca/P比值无明显变化.用推出法测定的涂层结合强度(剪切强度)为23.60MPa.
关键词:
等离子喷涂
,
氮化硅
,
羟基磷灰石
,
种植体
