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王佩璇 , 王宇 , 史宝贵
金属学报
在316L不锈钢片表面上用离子束辅助沉积(IBAD)和溅射沉积加上离子注入方法制备Si-C薄膜, 测量氚通过钢片的渗透率, 并用XPS, AES, XRD及TEM等分析薄膜的成分和结构, 结果表明, 改性膜使不锈钢的氚渗透降低近5个数量级, 随着制备条件的汪同, 膜中的C/Si原子比不同, 用双靶(Si, C)加C离子轰击的IBAD方法可得到的较高的C/Si比.
关键词: 碳化硅 , null , null , null , null , null