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p型Na掺杂ZnMgO薄膜的光电导性能

薛雅 , 叶志镇 , 陈凌翔 , 叶春丽

材料科学与工程学报

采用脉冲激光沉积(PLD)方法在石英衬底上制备p型Na掺杂ZnMgO薄膜,薄膜在氮气气氛中600℃退火60 s,具有较好的光电性能.在室温下分别用波长254nm的紫外光和波长630nm的红色激光对样品进行了光电导性能测试.两种光照下,光电流均瞬间上升,且光响应度与外加偏压具有线性相关性.紫外光照下p型Na掺杂ZnMgO薄膜的光电流变化比红色激光照射下要显著.

关键词: Na掺杂 , p型ZnMgO , 光电导

Cu基Al掺杂ZnO多层薄膜的生长和性能

王钰萍 , 叶春丽 , 吕建国 , 丛宏林 , 江忠永 , 叶志镇

材料科学与工程学报

本文采用直流磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了AZO/Cu、Cu/AZO和AZO/Cu/AZO三种复合结构多层膜,研究了生长温度对多层膜特性的影响,发现AZO/Cu双层薄膜具有最优的光电性能,其最佳生长温度为100~150℃。文中进一步考察了生长温度对AZO/Cu双层薄膜结构性能和表面形貌的影响,结果表明:合适的生长温度有利于改善AZO/Cu双层薄膜的晶体质量,进而提高其光电性能;150℃下沉积的薄膜具有最佳品质因子1.11×10^-2Ω^-1,此时方块电阻为8.99Ω/sq,可见光透过率为80%,近红外反射率约70%。本文在较低温度下制备的AZO/Cu双层膜具有较优的透明导电性和良好的近红外反射性,可以广泛应用于镀膜玻璃、太阳能电池、平板显示器等光电领域。

关键词: AZO , 多层结构薄膜 , 光电性能 , 生长温度

透明导电AZO/Cu双层薄膜制备及其性能

叶春丽 , 王钰萍 , 吕建国

材料科学与工程学报

采用直流磁控溅射方法在玻璃衬底上室温生长了AZO/Cu双层薄膜,Cu层厚度控制在9nm,研究了AZO层厚度对薄膜电学和光学性能的影响。当AZO层厚度为20~80nm时,AZO/Cu双层薄膜具有良好的综合光电性能,方块电阻为12~14Ω/sq,可见光平均透过率为70~75%,品质因子为2×10-3~5×10-3Ω-1。AZO/Cu双层薄膜可以观察到Cu(111)和ZnO(002)的XRD衍射峰。通过退火研究表明,AZO/Cu双层薄膜的光电性能可在400℃下保持稳定,具有良好的热稳定性。本研究制备的透明导电AZO/Cu双层薄膜具有室温制程、综合光电性能良好、结晶性能较好、稳定性高的优点,可以广泛应用于光电器件透明电极及镀膜玻璃等领域。

关键词: AZO , 双层薄膜 , 光电性能 , 室温生长

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