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水平震荡机械研磨电镀铜工艺研究

吕小莉 , 冯长杰 , 钟小荣 , 万小欢 , 杜楠

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2010.03.021

在传统酸性镀铜液中加入玻璃球,利用SEM和XRD考察了玻璃球数量与震荡频率对机械研磨电镀工艺的影响,并探讨了水平震荡频率和玻璃球数量对镀层微观结构的影响机理.实验结果表明:固定玻璃球数量为80个,震荡频率为2.5~4.2 Hz时,所得镀层的晶粒尺寸随着震荡频率的增加而显著降低;固定水平震荡频率为4.2 Hz,玻璃球数量为40~120个时,随着玻璃球数量的增加,所得镀层的晶粒尺寸先降低后略有增大,但仍明显小于传统镀层;水平震荡机械研磨电镀铜层具有(111)择优取向,但择优取向程度受水平震荡条件影响.

关键词: 水平震荡 , 机械研磨 , 电沉积 , 镀铜 , 镀层结构

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