胡飞
,
陈镜昌
,
吴坚强
,
江毅
,
王群
功能材料
在酸性溶液中在透明导电玻璃(ITO)基体上电化学沉积Cu2O薄膜.通过实验研究了电沉积工艺条件对电沉积Cu2O薄膜的影响.X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)对薄膜的微观结构和表面形貌进行了分析.结果表明,水浴温度较高时,酸性镀液中Ac-HAc共轭缓冲体系的反应速率提高,可以有效抑制铜单质的生长;镀液中铜离子的浓度会影响工作电极表面铜离子的浓度梯度,使得Cu2O在不同镀液下形成不同方向的择优取向;在双电极条件下可以提高电沉积Cu2O薄膜的电流密度至4mA/cm2,远远高于文献报导在三电极体系下低于1mA/cm2的工作电流密度.生成的氧化亚铜薄膜具有多孔结构,禁带宽度Eg约为2.4eV.
关键词:
氧化亚铜
,
电沉积
,
溶液温度
,
电流密度
胡飞
,
吴坚强
,
黄敏
,
江毅
电镀与涂饰
在Guglielmi模型的基础上,推导了采用方形、上三角形、下三角形和锲形四类脉冲波形复合电沉积时,电流与镀层中惰性微粒体积分数的数学关系,并以Ni-SiC复合电沉积为例,进行了试验验证.结果表明,在相同峰值电流密度下,方波脉冲电流下SiC的沉积量是其他三类脉冲电流波形的1.51倍:而当平均电流密度相同时,方波脉冲电流下SiC的沉积量是其他三类电流波形的1.06倍.分析了电流密度对镍基体上SiC沉积量的影响.
关键词:
镍
,
碳化硅
,
复合电沉积
,
脉冲电流
,
建模
胡飞
,
胡澄清
,
刘建成
,
罗凌虹
,
吴坚强
电镀与涂饰
采用醋酸铜-醋酸钠酸性溶液和硫酸铜-乳酸碱性溶液,分析了不同pH下电沉积Cu2O薄膜的形貌及结构,讨论了镀液体系及溶液pH对Cu2O薄膜生长的影响,测定了不同形貌的Cu2O薄膜的光学透射性能.结果表明,溶液的氢氧根、羧基、羟基中的氧原子会影响Cu2O薄膜的结构及形貌.酸性溶液中,Cu2O薄膜易形成混晶结构;而碱性溶液中,随着pH的变化,Cu2O薄膜有不同的择优取向.酸性溶液中Cu2O薄膜形成网状结构,碱性溶液中易形成锥形结构.
关键词:
氧化亚铜
,
薄膜
,
电沉积
,
pH
,
择优取向
,
光学性能
