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纳米SiO2表面修饰及在聚乳酸中的应用

吴改红 , 刘淑强 , 郭红霞 , 董华 , 肖云超 , 孙卜昆 , 戴晋明

硅酸盐通报

为了降低纳米SiO2的表面能,防止团聚,提高分散性,应用硅烷偶联剂KH-550对纳米SiO2进行表面修饰.分析KH-550用量、反应时间对纳米SiO2修饰效果的影响关系,并应用SEM对纳米SiO2修饰前后形貌进行观测,应用SEM、DSC对聚乳酸/纳米SiO2复合材料进行表征.结果得出纳米SiO2最佳修饰工艺为:KH-550用量5%,反应时间2h.最优工艺修饰的纳米SiO2结构松散,在聚乳酸中分散均匀,复合体系的玻璃化转变温度提高了4.29℃,玻璃化转变温度处的热焓提高了2.431 J/g.

关键词: 纳米SiO2 , 硅烷偶联剂 , 表面修饰 , 聚乳酸

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