万宗跃
,
张利
,
印仁和
,
徐群杰
,
陈
,
浩
,
朱律均
,
周国定
金属学报
3-氨基-1,2,4-三氮唑(ATA)是一种环境友好型金属处理剂,以其在Cu-Ni合金表面制备了自组装单分子膜(SAMs)，用电化学方法研究ATA SAMs对Cu-Ni合金的缓蚀作用及其吸附行为.结果表明，ATA分子易在Cu-Ni合金表面形成稳定的ATA SAMs,抑制了Cu-Ni合金的阳极氧化过程,改变了电极表面双电层结构，使零电荷电位负移,固/液界面双电层电容明显降低,有良好的缓蚀效果,这与交流阻抗和极化曲线得到的结论一致.同时研究表明ATA的吸附行为符合Langmuir吸附等温式,吸附机理是典型的化学吸附.
关键词:
Cu-Ni合金
,
ATA
,
The SAMs
,
Anticorrosion
,
Adsorption
徐群杰
,
周国定
,
陆柱
,
刘峰名
,
任斌
,
田中群
,
林昌健
中国腐蚀与防护学报
doi:10.3969/j.issn.1005-4537.2001.03.007
用表面增强拉曼光谱技术(SERS)对在0.5mol/LH2SO4溶液中苯并三氮唑BTAH及其衍生物4CBTAH(4羧基苯并三唑)对铜的缓蚀作用机理进行了研究,发现4CBTAH对铜的作用与BTAH的作用机理相似,在较正电位下两者都是通过三唑环与铜形成配合物覆盖在铜表面,随着电位负移在铜电极表面吸附的聚合物膜逐渐转化为分子形式吸附,4CBTAH中的-COOH基团只是起到空间位阻的作用,没有参与电极表面的吸附.
关键词:
铜电极BTAH缓蚀剂表面增强拉曼光谱
张慧鑫
,
包伯荣
,
葛红花
,
季淑浥
,
周国定
,
孙月平
,
黄国军
腐蚀与防护
doi:10.3969/j.issn.1005-748X.2006.12.004
用旋转挂片失重法、极化曲线法、电化学阻抗谱等测试方法,研究了低磷1#阻垢缓蚀剂对碳钢和黄铜的缓蚀性能.研究结果表明:该阻垢缓蚀剂在试验用模拟水条件下,对碳钢和黄铜均有明显缓蚀作用,且其缓蚀效果与传统水质稳定剂SPC-405相当.
关键词:
碳钢
,
黄铜
,
低磷阻垢缓蚀剂
,
极化曲线
,
交流阻抗
万宗跃
,
张利
,
印仁和
,
徐群杰
,
陈浩
,
朱律均
,
周国定
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2008.02.015
利用3-氨基-1,2,4-三氮唑(ATA)金属处理剂在Cu-Ni合金表面制备了自组装单分子膜(SAMs),用电化学方法研究ATA SAMs对Cu-Ni合金的缓蚀作用及其吸附行为.结果表明, ATA分子易在Cu-Ni合金表面形成稳定的ATA SAMs,抑制了Cu-Ni合金的阳极氧化过程,改变了电极表面双电层结构,使零电荷电位正移,固/液界面双电层电容明显降低,有良好的缓蚀效果,这与交流阻抗和极化曲线得到的结论一致.同时研究表明ATA的吸附行为符合Langmuir吸附等温式,吸附机理是典型的化学吸附.
关键词:
Cu-Ni合金
,
3-氨基-1
,
2
,
4-三氮唑
,
自组装单分子膜
,
缓蚀
,
吸附
徐群杰
,
朱律均
,
齐航
,
曹为民
,
周国定
金属学报
用光电化学方法研究了Cu在不同浓度NaCl的硼酸--硼砂溶液中的腐蚀以及缓蚀剂聚天冬氨酸(PASP)对Cu的缓蚀作用. Cu在硼酸--硼砂缓冲溶液中, 表面的Cu2O膜为p型半导体. 当Cu所在的溶液中存在少量NaCl (小于0.5 g/L)时, Cu表面Cu2O膜会受轻微Cl-掺杂但不会改变半导体性质; 当溶液中存在较多NaCl (0.5-15 g/L)时, Cu2O膜会受Cl-较严重的侵蚀, Cl-掺杂使Cu2O膜部分转成n型; 当溶液中存在大量NaCl (大于15 g/L)时, Cu$_{2}$O膜完全被Cl-掺杂而转型成n型. 缓蚀剂PASP的加入能够对Cu起到缓蚀作用：当NaCl浓度为2 g/L时, PASP与溶液中的Cl-在Cu表面竞争吸附, 明显抑制了Cl-对Cu2O膜的掺杂, Cu2O受到了保护仍为p型; 在NaCl浓度为30 g/L时, PASP与Cl-竞争吸附只能削弱Cl-对Cu2O膜的掺杂, Cu2O膜仍受Cl-掺杂而转成n型, 但n型性质变弱. 对Cu2O膜性质的Mott-Schottky测试结果与光电化学结果一致.
关键词:
Cu
,
Photoelectrochemistry
,
Corrosion
,
Inhibitor
,
PASP
徐群杰
,
周国定
,
陆柱
,
刘峰名
,
田中群
,
林昌健
中国有色金属学报
用表面增强拉曼光谱技术(SERS)对在3%NaCl溶液 中苯并三氮唑(BTA)及其衍生物4-羧基苯并三氮唑(4CBTA)对铜的缓蚀作用机理进行了研究 。 发现4CBTA对铜的缓蚀作用机理与BTA相似 ， 在较正电位下两者都是通过三唑环与铜形成配合物覆盖在铜表面； 随着电位负移， 铜 电极表 面吸附的分子形式的BTA或4CBTA数量增多； 4CBTA中的—COOH基团只是起到空间位阻的作用 ， 没有参与电极表面的吸附。 两者复配使用时以BTA吸附为主， 其缓蚀机理没有发生改变， 也没有产生协同效应。
关键词:
铜电极
,
苯并三氮唑
,
缓蚀剂
,
表面增强拉曼光谱
徐群杰
,
刘小华
,
刘月丽
,
周国定
,
陆柱
腐蚀与防护
doi:10.3969/j.issn.1005-748X.2001.10.003
采用交流阻抗法研究了pH=9.2的硼砂硼酸缓冲溶液中缓蚀剂Na2WO4和BrA复配对铜电极的缓蚀效果.实验表明,单一缓蚀剂Na2WO4的缓蚀效果随其浓度的增加略有增加;单一缓蚀剂BTA随其浓度的增加,其缓蚀性也增加,当浓度达5mg/L时,缓蚀效果最佳.在缓蚀剂总浓度为3mg/L,Na2WO4和BTA复配时,显出较好的协同效应,其最佳配比为:1mg/L Na2WO4十2mg/L BTA.
关键词:
交流阻抗法
,
铜电极
,
BTA
,
Na2WO4
,
缓蚀剂
翟祥华
,
包伯荣
,
葛红花
,
周国定
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2003.04.009
用电化学方法研究了Cl-、S2-、NO-3、温度以及某电厂水质稳定剂对304不锈钢耐蚀性的影响.极化曲线表明:在[Cl-]/[SO2-4]约为0.56时,点蚀电位开始下降,并随着Cl-浓度的增大逐渐降低;S2-的加入使钝化电流显著增大;NO-3浓度增加使点蚀电位逐渐升高;溶液温度的提高使点蚀电位降低,钝化电流也有所增大,钝化膜的耐蚀性降低;实验表明采用的某厂水质稳定剂可引起304不锈钢点蚀电位的下降.Mott-Schottky图显示S2-浓度的增加使体现p-型半导体(氧化铬)性质的直线段发生较大变化,说明硫离子影响了铬氧化物的性质.
关键词:
耐蚀性
,
304不锈钢
,
极化曲线
,
Mott-Schottky图
,
冷却水
葛红花
,
周国定
腐蚀与防护
电力设备腐蚀控制是保障电力安全的重要方面,本文总结了国内外部分发电设备的防腐蚀技术及其进展,主要内容包括:锅炉高温腐蚀控制及停炉保护、发电机内冷水系统腐蚀控制、凝汽器腐蚀与防护、热交换设备阻垢缓蚀与节能技术、烟气脱硫设备腐蚀与控制等.
关键词:
电力设备
,
腐蚀控制
,
防腐蚀
