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高压绝缘氧化铝陶瓷涂覆层组织结构分析

郑家贵 , 蒋立新 , 曾家玉 , 周辉 , 蔡亚平 , 罗四维 , 周心明

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2001.01.005

用不同配方的Mn、Cr、Ti混合物涂覆α-Al2O3绝缘陶瓷表面,在适当条件下进行热退火处理,观测了各样品的二次电子发射系数,表面电阻率,XRD。发现涂层与陶瓷基体间相互扩散,结合紧密,有平整的表面组织结构,形成不同新相与原α-Al2O3混合的表面;样品表面电阻率降低,二次电子发射系数降幅达60%~65%。涂覆处理有利于提高真空绝缘子抗表面闪烁,耐高压击穿的能力。

关键词: 涂覆处理方法 , 氧化铝 , 绝缘陶瓷 , 微结构

Cr2O3涂层对Al2O3绝缘瓷二次电子发射特性的影响

郑家贵 , 蒋立新 , 蔡亚平 , 罗四维 , 周心明

无机材料学报

用Cr涂复a-Al绝缘瓷表面,并经热退火处理.观测了它们的二次电子发射系数、SEM、XRD、XPS和EELS.发现样品在退火后,涂层元素扩散进了Al陶瓷基底,生成了新相;根据XPS和EELS的分析结果,表面层能隙减小,能隙中的缺陷态、杂质态及表面态增加,提供了更多可能的复合中心和陷阱中心,有利于非平衡载流子的散射跃迁,从而大大耗散能量,减少二次电子发射.

关键词: Cr2O3涂层 , α-Al2O3 insulator , secondary electron emission characteristic

Cr203涂层对A1203绝缘瓷二次电子发射特性的影响

郑家贵 , 蔡亚平 , 周心明 , 蒋立新 , 罗四维

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2001.03.019

用CT203涂复α-A1203绝缘瓷表面,并经热退火处理。观测了它们的二次电子发射系数、SEM、XRD、XPS和EELS,发现样品在退火后,涂层元素扩散进了A1203陶瓷基底,生成了新相;根据XPS和EELS的分析结果,表面层能隙减小,能隙中的缺陷态、杂质态及表面态增加,提供了更多可能的复合中心和陷阱中心,有利于非平衡载流子的散射跃迁,从而大大耗散能量,减少二次电子发射。

关键词: Cr203涂层 , α-A1203绝缘瓷 , 二次电子发射特性

a-Si:H/a-Si_(1-x)C_x:H 多层膜的电学和光学性质

彭启才 , 周心明 , 蔡伯埙

材料研究学报

采用等离子体辉光放电单室系统制备的a-Si:H/a-Si_(1-x)C_x:H 多层膜结构具有低的暗电导和高的光电导特性,且不同于单层膜,有明显的S-W 效应。随着子层厚度L 减小,多层膜曝光态(B)的暗电导率σdB 较退火态(A)的σdA 减小快,即光诱导衰退程度增大,而光电导无明显变化。本文还测定了此多层膜结构的光能隙E_g,得到随子层厚度减小“蓝移”的结果。用一维单量子阱模型作了讨论,实验值与理论计算符合较好。

关键词: a-Si:H/a-Si_(1-x)C_x:H , superlattice , amorphous semiconductors electrical properties , optical properties , null

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