周爱萍
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于长新
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魏春城
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刘新超
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李春龙
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李培江
人工晶体学报
以片状的BN为基体粉料,采用流延成型工艺结合热压烧结制备BN织构陶瓷,并对其结构、断面形貌以及力学性能进行了研究.实验结果表明,BN晶粒选择沿(002)晶面择优定向排列.织构陶瓷的力学性能呈现出明显的各向异性: 当加载方向垂直于片层时,弯曲强度和断裂韧性分别为53.75 MPa 和1.51 MPa·m1/2,均优于水平方向的力学性能.垂直方向上良好的性能归因于加载时片状颗粒引起的裂纹偏转.
关键词:
织构陶瓷
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高取向度
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BN
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力学性能
周爱萍
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刘汉法
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张化福
人工晶体学报
利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了铝铬共掺杂氧化锌(ZACO)透明导电薄膜.通过X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)等表征方法对薄膜特性进行测试分析,研究了溅射压强和溅射功率对薄膜生长速率以及光电特性的影响.结果表明,随着溅射气压(1.5~4.5 Pa)的增大,薄膜沿c轴方向的结晶质量提高,薄膜表面更加致密,晶粒大小更加均匀.薄膜生长率随压强的增大而减小,但电阻率先减小后增大.当溅射功率由80 W增大到100 W时,薄膜的生长速率增大,电阻率减小.溅射压强为3.5 Pa,溅射功率为100 W时,薄膜的电阻率达到最小值2.574×10-3 Ω·cm.紫外-可见透射光谱表明,所有薄膜在可见光区的透过率均超过89.9%.
关键词:
ZACO薄膜
,
溅射压强
,
溅射功率
,
透明导电薄膜
周爱萍
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刘汉法
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臧永丽
功能材料
采用直流磁控溅射法在玻璃衬底上沉积铌掺杂氧化锌(NZO)透明导电薄膜.通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)以及透射光谱等测试研究了溅射功率对薄膜结构、形貌以及光电性能的影响.实验结果表明NZO薄膜是多晶膜,具有ZnO的六角纤锌矿结构,最佳取向为(002)方向.溅射功率从40W增加到80W时,薄膜的电阻率迅速下降;功率超过80W时,电阻率趋于平稳.在溅射功率为100W时,电阻率具有最小值5.89×10-4Ω·cm,光学带隙具有最大值3.395eV.实验制备的NZO薄膜附着性能良好,在可见光范围内的平均透过率均超过86.6%.
关键词:
ZnO∶Nb薄膜
,
溅射功率
,
透明导电薄膜
,
磁控溅射
周爱萍
,
高金霞
,
孙艳
人工晶体学报
采用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了高质量的Nb掺杂ZnO( NZO)透明导电薄膜.为了研究薄膜厚度对薄膜性质的影响,制备了五个厚度分别为239 nm,355 nm,489 nm,575 nm和679 nm的样品.XRD结果表明,ZnO∶ Nb薄膜是具有六角纤锌矿结构的多晶薄膜,并且具有垂直于衬底的c轴择优取向.随着膜厚的增加,薄膜的结晶质量明显提高.当厚度从239 nm增加到489 nm时,平均晶粒尺寸从19.7 nm增加到24.7 nm,薄膜的电阻率持续减小;当厚度进一步增加时,晶粒尺寸略有减小,电阻率有所增加.本实验获得的最低电阻率为4.896×10-4Ω·cm.随膜厚的增加,光学带隙先增大后减小.所有薄膜在可见光区域的平均透过率均超过88.3%.
关键词:
ZnO∶ Nb薄膜
,
薄膜厚度
,
透明导电薄膜
,
磁控溅射
周爱萍
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张化福
,
刘汉法
人工晶体学报
室温下,利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了铝铬共掺杂氧化锌薄膜,研究了溅射功率(55-130 W)对薄膜结构、残余应力、表面形貌及其光电性能的影响.结果表明,ZnO(002)衍射峰的强度随着溅射功率的增大而增强,晶体结构得以改善.晶格常数、压应力和电阻率均随着溅射功率的增大而减小.当溅射功率为130 W时,制备的ZnO:Al,Q薄膜的最低电阻率可达1.09×lO-3Ω·em.功率由55 W增大到130 W时,光学带隙由3.39 eV增大到3.45 eV.紫外-可见透射光谱表明,所有薄膜在可见光范围内平均透过率均超过89%.
关键词:
溅射功率
,
磁控溅射
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ZnO:Al,Cr薄膜
周爱萍
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张化福
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臧永丽
材料科学与工程学报
利用溶胶-凝胶法制备了掺杂1.5%锰离子的ZnAl2O4晶体,通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)以及荧光光谱仪对样品的结构和光致发光(PL)性能进行测试分析。结果表明,随着烧结温度的升高,晶体的X射线衍射峰逐渐增强,晶体结构得以改善。当受到427nm的激光源激发时,晶体会发射出峰值为512nm的绿光和680nm的红光。绿光是由Mn2+的4 T1→6 A1跃迁引起的,而红光是源于4价锰离子。在还原气氛下,烧结温度由600℃上升到900℃时,红光发射峰强度降低并继而消失,而绿光发射峰的强度逐渐增强。
关键词:
溶胶-凝胶法
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ZnAl2O4:Mn晶体
,
光致发光