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半绝缘砷化镓晶片中碳的微区分布

徐岳生 , 杨新荣 , 郭华锋 , 唐蕾 , 刘彩池 , 王海云 , 魏欣

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2004.03.026

通过化学腐蚀(AB腐蚀液)、金相显微镜观察、透射电镜(TEM)及能谱分析(EDX),对LEC法生产的半绝缘砷化镓( SI-GaAs)单晶中碳的微区分布进行了分析.其结果表明: 碳的微区分布与晶片中位错密度及分布存在对应关系.高密度位错区位错形成胞状结构,该结构的胞壁区碳含量高,近胞壁区次之,剥光区碳含量低于检测限.

关键词: SI-GaAs , 位错 , 碳含量 , 能谱分析

半绝缘砷化镓(SI-GaAs)单晶中的微缺陷的研究

王海云 , 张春玲 , 唐蕾 , 刘彩池 , 申玉田 , 徐岳生 , 覃道志

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2004.03.027

砷化镓(GaAs)为第二代半导体材料,GaAs衬底质量直接影响器件性能.利用JEM-2002透射电子显微镜(TEM)及其主要附件X射线能量散射谱仪(EDXA),对半绝缘砷化镓(SI-GaAs)单晶中微缺陷进行了研究.发现SI-GaAs单晶中的微缺陷包含有富镓沉淀、富砷沉淀、砷沉淀、 GaAs多晶颗粒和小位错回线等.还分析了微缺陷的形成机制.

关键词: SI-GaAs , 微缺陷 , 小位错回线 , 沉淀成核中心

稀土Er3+/Yb3+掺杂对多孔硅结构和光致发光性能的影响

张春玲 , 唐蕾 , 张会平 , 姚江宏

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.02.001

利用双槽电化学腐蚀方法制备多孔硅,并用电化学掺杂方法对多孔硅进行稀土元素Er3+/Yb3+掺杂.利用扫描电镜和X射线衍射光谱分析所制备样品的结构和成分;通过对比掺杂前后以及退火前后荧光光谱的变化,分析能级变化情况和能量传递过程,认为可见光区的绿光源于SiOx(1<x<2)氧化层中的Si-O键,可见光区的红光和近红外区域的发光,源于Er3+和Yb3+离子之间交叉弛豫或者选择性跃迁.

关键词: 多孔硅 , 电化学 , 稀土掺杂 , 荧光光谱 , X射线衍射

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