张有为
,
万里
,
程新红
,
王中健
,
夏超
,
曹铎
,
贾婷婷
,
俞跃辉
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2012.11663
采用水基原子层沉积(H2O-based ALD)方法在石墨烯上直接生长Al2O3介质薄膜, 研究了Al2O3成核机理. 原子力显微镜(AFM)对Al2O3薄膜微观形态分析表明, 沉积温度决定着Al2O3在石墨烯表面的成核生长情况, 物理吸附在石墨烯表面的水分子是Al2O3成核的关键, 物理吸附水分子的均匀性直接影响Al2O3薄膜的均匀性. 在适当的温度窗口(100~130℃), Al2O3可以均匀沉积在石墨烯上, AFM测得Al2O3薄膜表面均方根粗糙度(RMS)为0.26 nm, X射线光电子能谱(XPS)表面分析与元素深度剖析表明, 120℃下在石墨烯表面沉积的Al2O3薄膜中O和Al元素的含量比约为1.5. 拉曼光谱分析表明, 采用H2O-based ALD工艺沉积栅介质薄膜不会降低石墨烯晶体质量.
关键词:
石墨烯; 原子层沉积; Al2O3薄膜
张有为
,
万里
,
程新红
,
王中健
,
夏超
,
曹铎
,
贾婷婷
,
俞跃辉
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2012.11663
采用水基原子层沉积(H2O-based ALD)方法在石墨烯上直接生长Al2O3介质薄膜,研究了Al2O3成核机理.原子力显微镜(AFM)对Al2O3薄膜微观形态分析表明,沉积温度决定着Al2O3在石墨烯表面的成核生长情况,物理吸附在石墨烯表面的水分子是Al2O3成核的关键,物理吸附水分子的均匀性直接影响Al2O3薄膜的均匀性.在适当的温度窗口(100～130℃),Al2O3可以均匀沉积在石墨烯上,AFM测得Al2O3薄膜表面均方根粗糙度(RMS)为0.26 nm,X射线光电子能谱(XPS)表面分析与元素深度剖析表明,120℃下在石墨烯表面沉积的Al2O3薄膜中O和Al元素的含量比约为1.5.拉曼光谱分析表明,采用H2O-based ALD工艺沉积栅介质薄膜不会降低石墨烯晶体质量.
关键词:
石墨烯
,
原子层沉积
,
Al2O3薄膜
夏超
,
王中健
,
何大伟
,
徐大伟
,
张有为
,
程新红
,
俞跃辉
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2012.01.004
本文具体分析了体硅SCR(晶闸管)和SOI SCR的抗静电特性,利用软件Sentaurus对埋氧层3μm,顶层硅1.5μm的SOI衬底上的SCR进行了工艺和性能仿真,仿真结果达到了4.5kV的抗静电能力,符合目前人体模型的标准2KV.研究发现,注入剂量(9*13 -8*14cm-2)增加会引起触发电压减小,维持电压升高；Trench长度(0.8 -1.1μm)增加,器件触发电压几乎不变,维持电压降低；场氧化层长度(2 -4.5μm)增加,触发电压和维持电压均增加.
关键词:
SOI ESD
,
SCR
,
Sentaurus
,
保护器件
江献财
,
刘磊
,
夏超
,
张熙
,
代华
高分子材料科学与工程
采用溶液成膜的方法制备了不同Mg(NO3)2含量的聚乙烯醇(PVA)/Mg(NO3)2复合薄膜.考察了PVA/Mg(NO3)2复合薄膜在相对湿度为54%时的含水量.采用X射线衍射(XRD),差示扫描量热(DSC),动态力学性能(DMA)和力学性能测试方法研究了Mg(NO3)2对PVA膜的结构和性能的影响.结果表明,Mg(NO3)2与PVA的相容性非常好,所制备的PVA/Mg(NO3)2复合膜的透明性好.Mg(NO3)2的加入能显著破坏PVA中的氢键作用,增加PVA膜中的水含量,降低FVA的结晶度,使复合膜的玻璃化温度明显降低.拉伸实验表明,PVA/Mg(NO3)2具有比纯PVA膜更低的拉伸强度和更高的断裂伸长率.
关键词:
聚乙烯醇
,
硝酸镁
,
改性
,
复合膜
任宇红
,
彭桂荣
,
夏超
,
陈静
涂料工业
doi:10.3969/j.issn.0253-4312.2011.03.004
通过正交实验考察了环氧丙烯酸酯的制备及固化工艺,最终确定聚合反应温度、催化剂N,N-二甲基苯胺和阻聚剂对苯二酚的用量,以及引发剂过氧化苯甲酰、交联剂苯乙烯、催化剂N,N-二甲基苯胺的用量,结果表明酸转化率为99.2%,固化反应为双键加成反应.合成产物的红外光谱研究发现915 cm-1处的环氧官能团吸收峰消失,而1 720 cm-1处出现酯羰基吸收峰,表明聚合机理为环氧开环酯化反应;同时产物中出现了甲基丙烯酸中的特征官能团.TG分析表明其热分解温度可提高到427℃.漆膜性能测试表明漆膜的耐腐蚀性、附着力、耐冲击性均有提高.
关键词:
环氧丙烯酸酯
,
工艺
,
酯化反应
,
分析
