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钛合金着色技术的研究

姜伟 , 申德新 , 张云琨 , 张忠玉 , 王树臣 , 张艳红 , 韩宇淳 , 任明文

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2005.09.004

利用正交试验法研究了在磷酸-冰乙酸体系中磷酸、冰乙酸、添加剂、氧化电压、电解液温度、氧化时间等对钛阳极氧化膜的影响,确定了最佳工艺条件.结果表明,在采用以Ce作为添加剂的电解液中处理后所得到的钛合金着色膜呈蓝色、光亮美观,具有优良的耐蚀性、耐磨性和良好的附着力.

关键词: 着色技术 , 钛合金 , 阳极氧化

高速铣削镁合金ME20M的表面粗糙度研究

刘胤 , 薛宇光 , 宋永利 , 姜伟 , 于鲁萍 , 刘扬 , 桂艳

兵器材料科学与工程

为研究高速铣削参数和铣削方式对镁合金表面质量的影响，应用均匀试验设计对MgMnRE系耐热变形镁合金ME20M进行高速铣削试验，采用回归分析法建立镁合金高速铣削的表面粗糙度预测模型。结果表明：当vc为376.9911 m/min，fz为0.08 mm/z，ap为0.3 mm，ae为0.1 mm，表面粗糙度稳定在0.8μm以内；相同切削参数下，顺铣、逆铣的表面粗糙度变化趋势一致，逆铣的表面粗糙度值较小；在高切削速度、大每齿进给量、较大的切削深度条件下，顺铣与逆铣方式形成的表面形貌均出现了规律的犁沟现象。

关键词: 镁合金 , 高速铣削 , 表面粗糙度 , 均匀试验设计 , 顺铣逆铣

多相流集输管道腐蚀规律及控制措施

齐友 , 刘武 , 王赤宇 , 李静 , 方艳 , 姜伟 , 秦振杰

腐蚀与防护

阐述了多相流与腐蚀的关系,分析了多相流流型、相转变温度、CO2分压、H2S分压、压力降及流速对腐蚀产生的影响.在油气田,多相流的数学计算模型主要有冲蚀极限流速的计算,冲蚀预测模型,缓蚀剂吸附模型等,应用这几种模型可以对现场腐蚀情况进行预判,最后对腐蚀监测技术、防腐蚀措施进行了深入的阐述,并提出了建议.

关键词: 多相流 , 腐蚀规律 , 控制措施

HPLC法拆分粉唑醇对映体

王鹏 , 江树人 , 姜伟 , 周文景 , 王秋霞 , 王萍 , 周志强

应用化学 doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2005.04.021

关键词: 粉唑醇 , 对映体 , 分离 , 手性固定相

航空相机光学系统的耐蚀性消光涂装方法

姜伟 , 申德新 , 马宁 , 王立波

电镀与涂饰

根据航空相机光学系统的特点和使用要求,确定了以环氧渗透性封固底漆、环氧树脂底漆、黑色消光漆为基础的具有消光能力和较高耐蚀性的涂装方法.研究了底漆、面漆的选择要求及涂膜性能.介绍了耐蚀性消光涂层涂装工艺流程和规范,获得了外表面厚230μm、内表面厚30 μm、反射率小于5.42%的消光涂层.该涂层通过了96 h中性盐雾试验和湿热试验检测,适用于航空相机光学系统的涂装生产.

关键词: 航空相机 , 光学系统 , 涂装 , 消光 , 耐蚀性

超厚镀钯技术在光电经纬仪上的应用

姜伟 , 韩宇淳

电镀与涂饰

以黄铜为基材,研究了吡啶添加剂-氨盐体系的电镀钯工艺,分析了钯盐、氯化铵、吡啶添加剂质量浓度,温度及pH对镀液和镀层质量的影响.在Pd(NH3)2Cl220 g/L,NH4Cl 15 g/L,NH3·H2O 35 mL/L,吡啶添加剂25 g/L,pH 7～8,温度25～35℃和电流密度0.4～0.5 A/dm2的条件下,获得了厚度达35 μm的光亮钯镀层.该镀层与基体结合力良好,能满足光电经纬仪的工作要求.

关键词: 光电经纬仪 , 黄铜 , 镀钯 , 吡啶 , 氨盐 , 厚度 , 沉积速率

1Cr18Ni9Ti激光表面强化工艺的研究

韩莉 , 姜伟

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2008.01.022

为提高奥氏体不锈钢1Cr18Ni9Ti的硬度,对其表面进行激光表面强化处理,分析了金相组织和显微硬度以及工艺参数对硬度的影响,进行了硬度分布的曲线拟合以及拟合结果的检验.试验结果表明:采用激光表面强化工艺可以获得晶粒细小、硬度高于基体硬度的强化层,最高硬度达224HV;在一定范围内电流越大,硬度越高;扫描速度越慢,硬度越高.

关键词: 激光表面强化 , 晶粒细化 , 奥氏体不锈钢

4J32铁镍合金表面低反射率化学转化膜的制备

姜伟 , 董旭 , 张云琨 , 王立波 , 王建明

电镀与涂饰

通过对4J32铁镍合金表面化学氧化工艺的实验研究,制得低反射率化学转化膜.氧化液的主要成分及操作条件为:氢氧化钠550 g/L,重铬酸钠65 g/L,添加剂(以金属过氧化物为主)50g/L,温度150℃,时间80 min.分别采用色差仪、分光光度计测定化学转化膜与标准样片的颜色差异和光谱反射率.化学转化膜与标准样板的色差值为△E=+0.48、△L=+0.5、△a=+0.4、△b=-0.3,与标准样板间的颜色差异微小,为可接受的匹配.转化膜表面光谱反射率低于0.5％,可减轻杂光对光学系统成像质量的影响.

关键词: 铁镍合金 , 化学转化膜 , 反射率 , 光学系统