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原子层沉积技术在新型太阳能电池中的应用?

胡航 , 董兵海 , 万丽 , 孔梦琴 , 赵丽 , 王二静 , 王世敏

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2016.23.002

原子层沉积技术(ALD)是一项正处于发展之中、在许多领域具有巨大应用前景的新型材料制备技术，该技术在纳米结构和纳米复合结构的制备方面显示出独特的优势，在新型薄膜太阳能电池领域呈现出巨大的发展潜力和前景。首先概述了 ALD技术的工作原理，简要介绍了近几年 ALD技术在硅基太阳能电池和铜铟镓硒薄膜电池(CIGS)中的应用，然后重点综述了原子层沉积纳米功能薄膜在染料敏化太阳能电池(DSSCs)和有机-无机杂化钙钛矿太阳能电池(PSCs)为代表的新型薄膜太阳能电池中的应用。最后，总结了原子层沉积功能薄膜的特点和优势，展望了 ALD在新能源材料与器件领域的应用前景和发展趋势。

关键词: 原子层沉积 , 纳米功能薄膜 , 染料敏化太阳能电池 , 钙钛矿太阳能电池