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Ca2+对KDP晶体的光损伤阈值的影响

牟晓明 , 王圣来 , 王波 , 许心光 , 孙洵 , 顾庆天 , 李毅平 , 刘冰 , 孙绍涛 , 卢永强 , 孙云

人工晶体学报

Ca2+是KDP原料中一种常见的杂质离子,这种杂质不仅会影响晶体的生长过程,而且会加重晶体的光散射.通过传统降温法和点籽晶快速生长法生长不同Ca2+掺杂浓度的KDP晶体样品,对样品进行激光损伤实验,结果表明,Ca2+的存在降低了KDP晶体的光损伤阈值,其原因主要在于Ca2+掺杂导致晶体内部缺陷增多,内应力增加以及晶体中的散射颗粒密度增大使晶体光吸收加重.

关键词: Ca2+ , KDP晶体 , 晶体生长 , 损伤阈值

Cr3+ 掺杂对快速生长 KDP 晶体的生长习性和光学性能的影响

丁建旭 , 刘冰 , 王圣来 , 牟晓明 , 顾庆天 , 许心光 , 孙洵 , 孙云 , 刘文洁 , 刘光霞 , 朱胜军

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2011.00354

采用快速法生长了掺杂不同Cr3+浓度的KDP晶体, 测试了KDP晶体(100)面在不同Cr3+掺杂浓度下的生长速度及死区,表征了Cr3+掺杂的KDP晶体的Cr3+元素分布、透过光谱、散射颗粒分布和光损伤阈值. 实验表明Cr3+易吸附在晶体(100)面, 从而增大了(100)生长死区, 并降低了(100)面生长速度. Cr3+使快速生长的晶体产生柱、锥面生长区分界线. 元素分析表明Cr3+更容易通过柱面生长进入晶体, 从而导致晶体在可见光波段及紫外波段透过率的降低,最明显的是在220、450和650nm三处吸收峰的出现. Cr3+进入晶体后使晶体中散射颗粒增多, 基频和三倍频脉冲激光照射下晶体的损伤阈值随Cr3+掺杂浓度的增加而降低,且柱面区的损伤阈值要低于锥面区的损伤阈值.

关键词: 快速生长 , KDP crystal , growth habit , optical properties , doping

Cr3+掺杂对快速生长KDP晶体的生长习性和光学性能的影响

丁建旭 , 刘冰 , 王圣来 , 牟晓明 , 顾庆天 , 许心光 , 孙洵 , 孙云 , 刘文洁 , 刘光霞 , 朱胜军

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2011.00354

采用快速法生长了掺杂不同Cr3+浓度的KDP晶体,测试了KDP晶体(100)面在不同Cr3+掺杂浓度下的生长速度及死区,表征了Cr3+掺杂的KDP晶体的Cr3+元素分布、透过光谱、散射颗粒分布和光损伤阈值.实验表明Cr3+易吸附在晶体(100)面,从而增大了(100)生长死区,并降低了(100)面生长速度.Cr3+使快速生长的晶体产生柱、锥面生长区分界线.元素分析表明Cr3+更容易通过柱面生长进入晶体,从而导致晶体在可见光波段及紫外波段透过率的降低,最明显的是在220、450和650 nm三处吸收峰的出现.Cr3+进入晶体后使晶体中散射颗粒增多,基频和三倍频脉冲激光照射下晶体的损伤阈值随Cr3+掺杂浓度的增加而降低,且柱面区的损伤阈值要低于锥面区的损伤阈值.

关键词: 快速生长 , KDP晶体 , 生长习性 , 光学性能 , 掺杂

"点籽晶"法快速生长中等口径KDP单晶及其性能表征

王波 , 梁晓亮 , 许心光 , 王圣来 , 孙洵 , 顾庆天 , 李毅平 , 房昌水 , 冯彧 , 史崇德

人工晶体学报

本文使用德国MERCK公司生产的KDP原料和自行研制的晶体快速生长装置,采用"点籽晶"快速生长法成功生长出了150 mm级中等口径的KDP单晶,晶体生长速度达到20 mm/d.晶体生长过程中,生长溶液稳定,没有杂晶出现,生长的晶体完好且透明.X射线粉末衍射和摇摆曲线分析表明晶体有着较好的结构完整性;同时,测试了晶体的透过光谱和光损伤阈值,发现快速生长的晶体有着较好的光学性能.

关键词: KDP单晶 , "点籽晶"法 , 快速生长 , 光学性能

硫酸盐掺杂对KDP晶体生长的影响

张建芹 , 王圣来 , 房昌水 , 孙洵 , 顾庆天 , 李毅平 , 王坤鹏 , 王波 , 李云南 , 刘冰

功能材料

SO2-4是KDP原料中一种常见的杂质离子,通过传统降温法和"点籽晶"快速生长法研究了掺杂K2SO4的KDP晶体的生长.实验表明,硫酸根低浓度掺杂时可提高溶液的稳定性,促进晶体的生长,造成柱面扩展;高浓度时溶液稳定性遭到破坏,出现杂晶,晶体生长速度变慢,晶体出现开裂,柱面发生"楔化".

关键词: 硫酸根 , KDP晶体 , 晶体生长 , 快速生长

Fe3+对KDP晶体生长影响的研究

王波 , 王圣来 , 房昌水 , 孙洵 , 顾庆天 , 李义平 , 王坤鹏 , 李云南

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.02.003

金属离子对KDP晶体的影响是多方面的.本文采用不同的过饱和度,在不同的Fe3+掺杂浓度的生长溶液中生长KDP晶体,定量地研究了Fe3+对KDP晶体生长的影响.实验发现,无论是在高过饱和度还是在低过饱和度下生长KDP晶体,在一定的浓度范围内,Fe3+的掺入既可以增加生长溶液的稳定性,又可以有效抑制晶体柱面的扩展,而且晶体基本不楔化,同时,对晶体光学性能的影响也不大.

关键词: KDP晶体 , Fe3+掺杂浓度 , 过饱和度 , 溶液 , 生长习性

晶体生长机制和生长动力学的蒙特卡罗模拟研究

朱阁 , 卢贵武 , 李英峰 , 蓝建慧 , 张军 , 郑庆彬 , 黄乔松 , 孙洵 , 夏海瑞

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.01.006

采用动力学蒙特卡罗方法,对在完整光滑界面上低过饱和度溶液中的晶体生长机制和动态过程进行计算机模拟,得到了晶体生长速率与溶液过饱和度之间的关系以及晶体生长的表面形态.对以二维成核为主要生长机制的动力学生长规律进行分析,发现了二维成核生长的生长死区以及单核生长转变为多核生长时的过饱和度临界值,讨论了热粗糙度、表面扩散、台阶平均高度以及表面尺寸对晶体平均生长速率的影响.

关键词: 蒙特卡罗模拟 , 生长机制 , 晶体表面形态 , 晶体生长动力学

KDP晶体中散射颗粒形成机理的研究

孙洵 , 顾庆天 , 王圣来 , 李毅平 , 王坤鹏 , 王波 , 李云南 , 许心光 , 房昌水

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2003.06.001

本文在不同掺杂条件下,采用传统降温法生长了KDP晶体,利用超显微和透射电镜对KDP晶体中的散射颗粒进行了观察,在此基础上对其进行了分类.实验结果表明,不同种类散射颗粒的形成源于溶液中杂质与晶体化学键作用力的不同,造成这一结果的根本原因与KDP晶体的结构特性密切相关.

关键词: 散射颗粒 , KDP晶体 , 形成机理

热退火对KDP晶体微结构的影响

王圣来 , 李丽霞 , 胡小波 , 高樟寿 , 付有君 , 孙洵 , 李义平 , 曾红

功能材料

用X射线衍射和Raman光谱技术研究了KDP晶体165℃退火前后微观结构的变化.实验发现退火24h可以减小晶体生长过程中带来的晶格的畸变,提高了晶体的完整性,缩小晶体中键长和键角的变化范围,使晶体内应力得以部分释放.对于快速生长的晶体,退火的效果更加显著.

关键词: 热退火 , KDP晶体 , 双晶X射线衍射 , Raman光谱

Ni2+对KDP晶体生长及缺陷影响的研究

柴向旭 , 王波 , 王圣来 , 孙洵 , 顾庆天 , 丁建旭 , 李毅平 , 许心光

人工晶体学报

采用传统降温方法生长了不同Ni2+掺杂浓度的KDP晶体.实验发现当Ni2+掺杂浓度小于1000 ppm时溶液的稳定性随着掺杂浓度的增加而提高,大于1000 ppm时溶液的稳定性开始下降,但仍高于纯态溶液的稳定性;随着Ni2+浓度的增加KDP晶体柱面的生长死区增加,柱面的生长速度略有下降,但在生长过程中没有观察到晶体的楔化;KDP晶体的XRD分析及缺陷的研究表明Ni2+对晶体的结构影响不明显,但晶体中的缺陷和内应力增加.

关键词: KDP晶体 , 溶液稳定性 , 缺陷 , 内应力

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