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高场磁体用RRP Nb3Sn股线的研制

李春广 , 孙霞光 , 邓胜涛 , 管军强 , 肖成举 , 万晓波 , 朱思华 , 李建峰 , 杜社军 , 王天成 , 张丰收 , 刘向宏 , 冯勇

稀有金属材料与工程

采用Rod Restack Process (RRP)研制了单根线长大于1500 m的高场磁体用Nb3Sn股线,股线选用Nb作为扩散阻隔层,分布于各亚组元周围.在热处理时Nb阻隔层不但可以阻止Sn向稳定体Cu区的扩散,防止稳定体的Sn扩散污染,确保股线具有较高的剩余电阻率(RRR),同时,靠近Sn源内侧的Nb参与固态扩散反应生成A15相Nb3Sn,贡献临界电流.在股线的制备过程中,采用Nb-47%Ti(质量分数)芯代替部分Nb芯的方式添加元素Ti,达到了Ti元素添加目的,该方法因为使用了已经商业化的Nb-47%Ti而有效控制了制作成本.对该股线进行热处理以及超导性能测试研究表明:640℃,60 h热处理条件下,股线在12T,4.2 K,0.1 μV/cm下的Ic为514A,股线的RRR为148,具有良好的绝热稳定性;在650℃,100 h下股线的Ic为599 A,RRR=3.77.股线扩散阻隔层以及添Ti方式的成功选择,为获得长线打下了基础,为股线性能的初步研究及后续的实验提供了直接参考.

关键词: 高场磁体 , RRP , Nb3Sn股线

高浓度臭氧在分子束外延法制备Bi系氧化物薄膜中的应用

张炳森 , 于晓明 , 孙霞光 , 李茂林 , 张彩碚 , 祁阳

金属学报

利用硅胶吸附--解吸臭氧原理自制了臭氧浓缩装置, 通过此装置制备的高浓度臭氧作为分子束外延制备Bi系氧化物薄膜的氧化源. 在臭氧浓缩装置中, 硅胶温度保持在-85℃左右, 工作6 h, 可获得浓度(摩尔分数)高于95%的臭氧. 当臭氧浓缩装置中压强保持在1.3×10 3 Pa, 该臭氧浓度可维持5 h以上. X射线衍射结果表明, 制备的高浓度臭氧在高真空条件下可将Cu氧化成CuO, 并以此为氧化源利用分子束外延在MgO(100)衬底上制备了较高质量的 Bi2Sr2CuO6+x和Bi2Sr2CaCu2O8+x薄膜.

关键词: 臭氧 , concentrating apparatus , Bi-based oxide thin films , molecular beam epitaxy(MBE)

高浓度臭氧在分子束外延法制备Bi系氧化物薄膜中的应用

张炳森 , 于晓明 , 孙霞光 , 李茂林 , 张彩碚 , 祁阳

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2008.06.002

利用硅胶吸附一解吸臭氧原理自制了臭氧浓缩装置,通过此装置制备的高浓度臭氧作为分子束外延制备Bi系氧化物薄膳的氧化源.在臭氧浓缩装置中,硅胶温度保持在-85℃左右,工作6 h,可获得浓度(摩尔分数)高于95%的臭氧,当臭氧浓缩装置中压强保持在1.3×103Pa,该臭氧浓度可维持5 h以上.X射线衍射结果表明,制备的高浓度臭氧在高真空条件下可将Cu氧化成CuO,并以此为氧化源利用分子束外延在MgO(100)衬底上制备了较高质量的Bi2Sr2CuO6+x和Bi2Sr2CaCu2O8+x薄膜.

关键词: 臭氧 , 浓缩装置 , Bi系氧化物薄膜 , 分子束外延

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