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椭圆光谱法研究TiO2薄膜的光学性能

王晓 , 史新伟 , 崔立斌 , 王新昌 , 姚宁

稀有金属材料与工程

使用直流磁控溅射法,通过改变沉积压强在玻璃衬底上制备了TiO2薄膜.通过椭圆光谱法研究了TiO2薄膜的光学性能;利用场发射扫描电子显微镜、X射线衍射对薄膜的表面形貌和结构进行了表征.结果表明:压强的大小在磁控溅射法制备TiO2薄膜过程中能有效控制其晶粒尺寸、膜厚及薄膜的折射率.压强越大,晶粒尺寸越小,吸收边“蓝移”越明显;薄膜厚度随压强的增大先增加后减小;平均折射率随压强的增大呈下降趋势,消光系数在可见光波段的平均值趋于零.

关键词: TiO2薄膜 , 椭圆光谱法 , 磁控溅射 , 压强

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