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Ti/ZrN2/Al薄膜界面扩散反应的研究

朱永法 , 殷木省 , 王莉 , 姚文清 , 嵇世山 , 曹立礼

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2001.07.010

利用直流磁控反应溅射法在Al基底上制备了ZrN2及Ti多层薄膜。利用扫描俄歇微探针的深度剖析和线形分析技术研究了真空热处理对Ti/ZrN2/Al样品膜层之间的界面化学状态和相互作用的影响。研究结果表明,真空热处理使Ti/ZrN2/Al薄膜界面上发生了明显的界面扩散和化学反应,生成了TiNx物种,并且薄膜内层发生了严重的氧化反应。

关键词: 界面扩散 , ZrN2 , 俄歇电子能谱 , 线形分析

堇青石峰窝状结构填料的制备和应用

李增喜 , 嵇世山

硅酸盐通报 doi:10.3969/j.issn.1001-1625.1999.03.016

本文研究了利用堇青石为主要原料制备蜂窝状结构填料的工艺过程,重点考察了增塑剂的组成和焙烧温度对填料性能的影响,测试了堇青石的稳定性和峰窝状结构填料的热膨胀系数,工业试验表明:该蜂窝状结构填料是一种有效的气体分布器,可以使催化剂铂的损失减少12.5%.

关键词: 堇青石 , 峰窝状结构填料 , 塑性强度

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