常正凯
,
肖金泉
,
陈育秋
,
刘山川
,
宫骏
,
孙超
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2012.00056
研究了电弧离子镀磁性靶材使用过程中发生“跑弧”并导致靶材无法稳定刻蚀的问题. 利用有限元方法(FEM)对外加磁场下非磁性靶材系统和磁性靶材系统中的磁场分布进行了模拟. 研究了外磁场对电弧斑点运动的影响机理, 并结合电弧斑点放电的物理机制, 探讨了磁性靶材与低饱和蒸气压金属靶壳、绝缘陶瓷靶壳或软磁性金属靶壳组成复合结构靶材解决磁性靶材使用问题的可行性. 结果表明, 这3种复合结构靶材设计方案均能有效解决电弧离子镀磁性靶材“跑弧”问题. 通过实验得到, 在低饱和蒸气压金属或绝缘陶瓷靶壳设计方案里, 靶材频繁引弧到弧斑能受控运动的转变温度为(136.6±23.0) ℃.
关键词:
电弧离子镀
,
magnetic material
,
finite element method
,
magnetic field distribution
,
composited sructure target
赵升升
,
程毓
,
常正凯
,
王铁钢
,
孙超
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00504
利用电弧离子镀技术在不锈钢基体上制备了(Ti,Al)N涂层,研究了N2分压改变对涂层残余应力沿层深分布及相关力学性能的影响.结果表明,低N2分压下,(Ti,Al)N涂层残余应力沿层深分布较均匀,随N2分压的增加,涂层应力沿层深呈“钟罩型”分布,且全膜厚的应力值也明显增大；通过对涂层生长结构及微观成分分析,初步探讨了应力分布机理.随N2分压的增加,涂层硬度会显著增加,而膜/基结合力则大幅下降；采用改变N2分压工艺制备(Ti,Al)N涂层,可有效调整涂层残余应力沿层深分布趋势,改善其力学性能,并可成功制备厚度在130 μm以上的硬质涂层.
关键词:
(Ti,Al)N
,
硬质涂层
,
应力分布
,
调整应力
,
N2分压
常正凯
,
肖金泉
,
陈育秋
,
刘山川
,
宫骏
,
孙超
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2012.00056
研究了电弧离子镀磁性靶材使用过程中发生“跑弧”并导致靶材无法稳定刻蚀的问题.利用有限元方法(FEM)对外加磁场下非磁性靶材系统和磁性靶材系统中的磁场分布进行了模拟.研究了外磁场对电弧斑点运动的影响机理,并结合电弧斑点放电的物理机制,探讨了磁性靶材与低饱和蒸气压金属靶壳.绝缘陶瓷靶壳或软磁性金属靶壳组成复合结构靶材解决磁性靶材使用问题的可行性.结果表明,这3种复合结构靶材设计方案均能有效解决电弧离子镀磁性靶材“跑弧”问题.通过实验得到,在低饱和蒸气压金属或绝缘陶瓷靶壳设计方案里,靶材频繁引弧到弧斑能受控运动的转变温度为(136.6±23.0)℃.
关键词:
电弧离子镀
,
磁性材料
,
有限元方法
,
磁场分布
,
复合结构靶材
