张小莉
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程旻
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康道远
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杨森
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刘希夏
人工晶体学报
相比传统KDP晶体同心旋转的生长方式,本文利用数值模拟的方法,针对不同旋转半径和不同籽晶摆放方式对KDP晶体生长过程中溶液流动和物质输运的影响进行研究,以寻找提高晶体表面过饱和度及其均匀性的方法.计算结果表明:随着旋转半径从0 cm增大到3 cm,晶面时均过饱和度整体也逐渐增大,柱面平均均方差逐渐减小,锥面平均均方差先增大后减小;当晶体摆放方式采用棱边迎流时,晶体表面时均过饱和度相比柱面迎流略有下降,但其平均均方差最小,有利于减少包裹体的产生.
关键词:
KDP晶体
,
数值模拟
,
旋转半径
,
表面过饱和度
,
均方差
康道远
,
程旻
,
张小莉
,
李明伟
,
杨森
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.07.034
首先测定了掺杂不同浓度甲紫条件下 KDP 晶体的溶解度曲线,发现随着掺杂浓度的增大,KDP 晶体的溶解度逐渐减小；进而通过测定不同掺杂条件下KDP溶液的成核诱导期,发现随着甲紫掺杂浓度的增大,溶液的诱导期先增大后减小,说明适量浓度的甲紫掺杂能够增加溶液的稳定性.最后进行了掺杂不同浓度甲紫条件下KDP晶体的生长实验,测量了晶体各向的生长速度,发现晶体各向生长速度均随着掺杂浓度的增大先减小后增大,最终减小,当甲紫掺杂浓度为0．1％mol/L时,KDP晶体各向生长速度最快.
关键词:
KDP
,
甲紫
,
掺杂
,
诱导期
,
生长速度
