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化学刻蚀制备黑硅材料的研究现状及展望

李学铭 , 廖承菌 , 唐利斌 , 杨培志

材料导报

基于黑硅材料的发展,讨论了国内外化学刻蚀制备黑硅的研究进展,包括掩膜辅助、金属离子辅助化学刻蚀.结果表明,黑硅材料的表面特殊结构能够有效降低硅表面的反射率,从而提高太阳能电池转换效率.此外,化学刻蚀法制备黑硅简便易行、成本低廉,高效可靠,具有良好的发展前景.

关键词: 黑硅 , 化学刻蚀 , 金属催化 , 微纳结构

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