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并五苯薄膜的AFM及XRD研究

陶春兰 , 张旭辉 , 董茂军 , 欧谷平 , 张福甲 , 刘一阳 , 张浩力

功能材料

报道了以热氧化硅片为衬底,用溶液溶解和真空蒸镀两种方法制备有机半导体材料并五苯薄膜.用原子力显微镜(AFM)分析了薄膜的形貌,用X射线衍射仪(XRD)分析了薄膜的晶体结构,讨论了诸多因素对薄膜的影响以及两种方法制备的并五苯薄膜的相结构.

关键词: 并五苯薄膜 , 有机场效应晶体管(OFETs) , AFM , XRD

以聚酰亚胺为绝缘层的并五苯场效应晶体管

陶春兰 , 董茂军 , 张旭辉 , 孙硕 , 张福甲 , 李东仓 , 欧谷平

功能材料

报道了以聚酰亚胺(polyimide)作为绝缘层,并五苯作为活动层的一种全有机场效应晶体管.利用原子力显微镜(AFM)分析了聚酰亚胺薄膜及其表面并五苯薄膜的形貌;采用顶电极接触结构,测量出其场效应晶体管的输出特性曲线,并得出其场效应迁移率为0.079m2/(V·s),开关电流比约为104.

关键词: 聚酰亚胺 , 并五苯 , AFM , 有机场效应晶体管 , 迁移率

切削刀具用立方氮化硼涂层的研究进展

徐锋 , 左敦稳 , 张旭辉 , 户海峰 , 张骋 , 王珉

硅酸盐通报

立方氮化硼( cubic boron nitride,cBN)具有优异的物理力学性能和极高的化学稳定性,可以胜任铁系金属的加工,在高性能切削刀具等领域有着广泛的应用前景.cBN涂层在复杂刀具应用中有着不可替代的作用,由于气相生长高纯度和结合性能的cBN刀具涂层仍存在着较多的技术难题,因此仍然难以得到广泛的应用.本文综述了近20年来气相沉积cBN涂层的研究进展,阐述了物理气相沉积与化学气相沉积cBN涂层的方法与机理,分析了cBN刀具涂层制备与应用的关键问题,结合研究现状指出了cBN刀具涂层研究的发展方向.

关键词: 立方氮化硼 , 刀具涂层 , 化学气相沉积 , 物理气相沉积 , 过渡层

偏压对磁控溅射沉积立方氮化硼薄膜的影响

徐锋 , 左敦稳 , 张旭辉 , 户海峰 , 王珉

人工晶体学报

合适的衬底偏压是物理气相沉积制备cBN的必须条件,本文采用基于蒙特卡洛方法的SRIM软件对PVD过程中离子轰击衬底进行了分析,并进行了相关的实验研究.仿真与实验结果显示,随着离子轰击能量的增加,离子轰击深度和范围扩大,有利于cBN的成核与生长,但是过大的轰击能量会导致薄膜表面N与B元素的不匹配以及薄膜立方相的下降.同时,在PVD气氛中适量添加N2可以弥补薄膜表面N元素的损失,有利于提高立方相含量.

关键词: 立方氮化硼薄膜 , 磁控溅射 , 衬底偏压 , 离子轰击 , 立方相

Pentcene/SiO2表面随温度变化的AFM研究

陶春兰 , 董茂军 , 张旭辉 , 张福甲

功能材料

以热氧化硅片为衬底,以溶液溶解和真空蒸镀两种方法,在不同温度下制备有机半导体材料并五苯(pentacene)薄膜.用原子力显微镜(AFM)分析了薄膜的形貌,讨论了影响薄膜质量的各种因素.

关键词: pentcene/SiO2 , AFM , 表面形貌

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