蔡长龙
,
王季梅
,
弥谦
,
杭凌侠
,
严一心
,
徐均琪
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2002.06.009
薄膜沉积速率是影响薄膜性能的重要参数,研究它对于沉积优良的类金刚石薄膜具有重要的作用.针对脉冲真空电弧离子镀的具体工艺参数,研究了各种工艺参数对类金刚石薄膜沉积速率的影响,找出了影响类金刚石薄膜沉积速率的主要参数,得到了各种工艺参数下类金刚石薄膜沉积速率的曲线.
关键词:
脉冲电弧
,
沉积速率
,
类金刚石薄膜
尹路
,
郭天文
,
王辉
,
赵雯
,
弥谦
,
惠迎雪
稀有金属材料与工程
采用脉冲电弧离子镀膜法在纯钛表面制备类金刚石膜(DLC)并在口内使用.利用表面粗糙度仪、分光光度仪、扫描电镜分别研究镀制类金刚石膜、氮化钛膜、阳极氧化膜以及未表面处理的齿科纯钛试件表面白色念珠菌黏附情况和细胞毒性.结果表明,类金刚石膜表面菌数最少,粗糙度增加值和反射率下降值最小.类金刚石膜表面的L-929细胞增值良好.类金刚石膜可以显著降低纯钛义齿表面的白色念珠菌黏附量,可以承受日常口腔刷牙的磨耗应用于人体,对齿科修复体具有大的潜在应用价值.
关键词:
纯钛
,
类金刚石膜
,
真菌黏附
,
细胞毒性
潘永强
,
王飞飞
,
杭凌侠
,
弥谦
表面技术
为了研究等离子体中离子能量的分布规律,基于栅网式离子能量测试原理,采用离子光学模拟软件Simion7.0,对四栅网离子能量分析仪中网格大小和网格间距对离子能量测量结果的影响进行了理论分析.分析结果表明,当离子能量为800 eV左右时,网格尺寸的大小会影响离子能量的测量精度,网格间距的大小对离子能量的测量结果几乎不产生影响.该研究结果对栅网式离子能量测试装置的设计及网格参数的优化具有重要的理论和实践指导意义.
关键词:
离子能量
,
栅网式能量分析仪
,
Simion模拟
,
四栅网
王庆喜
,
弥谦
,
惠迎雪
材料导报
利用非平衡磁控溅射离子镀技术研究了不同氮气流量对TiN薄膜结构、摩擦性能、附着力及显微硬度的影响.研究结果表明:N2流量对TiN薄膜的择优取向有很大影响,N2流量较小时,TiN薄膜显示出{111}择优取向生长趋势,在N2流量为15sccm条件下沉积的TiN薄膜的(111)衍射峰强度最强,与之对应的薄膜硬度和膜基结合强度最高,耐磨性能也最好;N2流量的大小对TiN薄膜的沉积速率和摩擦系数影响显著,并随N2流量增加都有较明显的下降趋势.
关键词:
非平衡磁控溅射
,
氮化钛薄膜
,
氮气流量
弥谦
,
王昆
,
刘哲
表面技术
采用直流磁过滤电弧源技术,在K9玻璃基底上制备氧化铝薄膜,研究了沉积时的氧气分量和阴极靶电流对薄膜折射率、沉积速率、消光系数和表面粗糙度的影响.结果表明:薄膜折射率、沉积速率和消光系数均随着氧气分量的增加而降低,随着阴极靶电流的升高而增加；薄膜表面粗糙度则随氧气分量或阴极靶电流的增加,呈先减小、后增大的趋势.分析认为,主要是因为随着氧气分量和阴极靶电流的变化,基底表面铝原子和氧气的比例发生了改变,进而影响到薄膜的相关性能.
关键词:
电弧源
,
磁过滤
,
氧化铝薄膜
,
氧气分量
,
阴极靶电流
