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类球形氧化铈的制备及抛光性能

周新木 , 阮桑桑 , 彭欢 , 李静 , 李永绣

稀有金属 doi:10.13373/j.cnki.cjrm.2014.06.011

采用溶剂热法合成了粒径为200 nm左右的类球形CeO2前驱体,在一定温度下煅烧得到抛光粉,采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、电子衍射、激光粒度分析仪等对其进行了表征和观察;同时考察了溶剂热温度、分散剂种类和用量等因素对合成类球形CeO2前驱体的影响,以及不同煅烧温度和煅烧时间对单晶硅片抛光性能的影响.结果表明:以氯化铈为铈源,以0.75 mol·L-1 NH3·H2O为沉淀剂,乙二醇为溶剂,聚乙烯吡咯烷酮(PVP)为分散剂,搅拌30 min后得到浑浊液转移至50 ml内衬聚四氟乙烯(PTFE)反应罐中,在烘箱中于180℃反应24 h,沉淀分别用去离子水,无水乙醇各洗3次,放于60℃烘箱中烘干,得到氧化铈前驱体,经500℃煅烧2h为D50=203 nm的类球形CeO2粉体,粉体分散性好,配成质量分数为0.2%的抛光浆料对n(111)型单晶硅片抛光,得到较高抛光速率和超平整的抛光表面.

关键词: 氧化铈 , 类球形 , 合成 , 抛光

CeO2纳米线的合成及影响因素的探讨

彭欢 , 周新木 , 李静 , 黄肖凤 , 周雪珍 , 李永绣

稀土

采用水热法合成了粒径为25nm的CeO2纳米线,采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)对其进行了表征和观察;同时考察了沉淀剂种类、沉淀剂浓度、分散剂种类和反应时间等因素对纳米线的合成的影响,最终得到合成纳米线的最佳工艺条件为:以氯化铈为铈源,氢氧化钠为沉淀剂,CTAB为分散剂时所合成的纳米线分散性好,粒径均一.讨论了纳米线的影响因素.

关键词: 氧化铈 , 纳米线 , 合成 , 影响因素

不同温度轧制H68黄铜样品退火后的晶界特征分布

姜英 , 方晓英 , 王友林 , 彭欢 , 杜佳泽

材料热处理学报

采用电子背散射衍射(EBSD)技术研究了不同温度轧制黄铜H68样品退火后的晶界特征分布(GBCD).黄铜H68再结晶样品在不同温度下(-20℃、室温、100℃)进行6%轧制,随后进行650℃×10 min退火处理.结果表明:在室温下轧制退火比在100℃轧制退火和-20℃轧制退火生成更高比例的特殊晶界,其值达到78.7%;较大尺寸(400 μm)的∑3n(n=1,2,3)特殊晶粒团使外围的一般大角晶界网络连通性被阻断,实现了合金的GBCD优化.分析指出:在室温下轧制,合金的层错能有利于后续退火中形成退火孪晶,并发生∑3n(n=1,2,3)晶界迁移与交互反应;在100℃下轧制,合金的层错能较高,有利于后续退火中生成一般大角度晶界包围的新生晶粒;在-20℃下轧制,合金的层错能较低,后续退火中晶界迁移的驱动力不足,不能实现GBCD优化.

关键词: 黄铜H68 , 轧制 , 晶界特征分布

基于二聚酸的聚酯多元醇的合成及其热塑性聚氨酯弹性体的制备及性能研究

孙晴卿 , 段正康 , 彭欢 , 李立南

材料导报

以二聚酸、己二酸和新戊二醇为原料,在高温、氮气保护下,合成了一种相对分子质量为2000的聚酯多元醇.以合成的聚酯多元醇、二苯基甲烷二异氰酸酯、1,4-丁二醇为原料,采用预聚物法合成了热塑性聚氨酯弹性体,研究了其力学性能、耐水性、抗水解性、耐化学药品性,并与聚己酸内酯、聚四亚甲基醚二醇、聚己二酸乙二醇、聚己二酸丁二醇的热塑性聚氨酯产品进行了比较.

关键词: 二聚酸 , 聚酯多元醇 , 热塑性聚氨酯弹性体 , 性能测试

掺氟复合磨料的制备及对单晶硅抛光性能的影响

周新木 , 岑志军 , 李静 , 彭欢 , 李永绣

稀土

含氟的复合磨料在工业上已广泛应用,利用X-射线衍射、扫描电镜、激光粒度仪和原子力显微镜等测试手段,比较了不同掺氟方式和氟源得到含氟复合磨料的物性,以及对单晶硅的抛光效果和抛光表面性能的影响.结果表明,在80℃共沉淀、以掺氟量为7%掺入氟化物及1000℃下煅烧所得复合磨料具有较低的振实密度、粒度均匀的球型粒子,复合磨料中CeLa2O3F3含量相对较高,用于单晶硅的抛光可以得到较好的抛光表面性能;碳酸稀土直接喷撒氢氟酸在同等煅烧下制得复合磨料其抛光速率较高,但抛光表面性能较差.

关键词: 复合磨料 , 单晶硅 , 化学机械抛光

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